[发明专利]一种光学元件及其制备方法

说明书

本申请实施例公开了一种光学元件及其制备方法。通过在光学微结构上设置无机材料层，以及在无机材料层上设置折射率小于所述光学微结构的折射率的含氟碳键有机层，通过调整无机材料层和含氟碳键有机层的厚度在光学微结构上形成较薄的抗反射层，降低了光学元件对于入射光的光反射率，提高了进光量。

技术领域

本申请涉及光学技术领域，并且更具体地，涉及一种光学元件及其制备方法。

背景技术

当前的光学微结构通常通过在表面设置低折射率无机材料，来降低反射率，从而提高进光量。但是大部分无机材料的折射率并不是很低，这些无机材料对于降低光学微结构表面反射率的作用有限，抗反射性能往往不佳。

发明内容

本申请实施例提供了一种光学元件及其制备方法，能够显著的降低光学元件对于入射光的反射率。

第一方面，提供了一种光学元件，包括：

光学微结构；

位于所述光学微结构表面上的无机材料层；

位于所述无机材料层表面上的含氟碳键有机层；

其中，所述含氟碳键有机层的折射率小于所述光学微结构的折射率。

第二方面，提供了一种光学元件的制备方法，包括：

将无机材料沉积至光学微结构表面，生成位于所述光学微结构表面上的无机材料层；

将含氟碳键有机材料沉积至所述无机材料层表面，生成位于所述无机材料层表面上的含氟碳键有机层；

其中，所述含氟碳键有机层的折射率小于所述光学微结构的折射率。

第三方面，提供一种图像传感器，所述图像传感器中，包括前述的光学元件。

第四方面，提供一种光学扩散片，所述光学扩散片中，包括前述的光学元件。

本申请实施例的技术方案，通过在光学微结构表面设置无机材料层，以及在无机材料层表面设置折射率小于所述光学微结构的折射率的含氟碳键有机层，在光学微结构表面上形成有效的抗反射结构，降低了光学元件整体对于入射光的光反射率，提高了进光量。

附图说明

图1a为本申请实施例所提供的一种光学元件的局部横截面的示意性结构图；

图1b为本申请实施例所提供的另一种光学元件的局部横截面的示意性结构图；

图2为本申请实施例所提供的一种光学元件的反射率与无机材料层和含氟碳键有机层的厚度的关系示意图；

图3 为申请本实施例所提供的多种不同的光学元件的反射率的对比示意图；

图4为本申请实施例所提供的一种光学元件的制备方法的流程示意图；

附图标记：1—光学微结构；2—无机材料层；3—含氟碳键有机层；4—基底。

具体实施方式

在光学元件中，为了提高其进光量，通常是在光学微结构表面设置抗反射层，以降低光学元件表面的反射率，例如，一般是在光学微结构表面蒸镀一层低折射率无机材料，例如SiO₂、MgF₂等。但是大部分无机材料的折射率并不是很低，这些折射率并不太低的抗反射层虽然能能一定程度的降低光学元件表面反射率，但降低程度有限。而在某些场景下，光学元件的反射率对于整体的性能有着明显直接的影响。例如，反射率过高会直接降低图像传感器的暗光性能，以及，光学元件反射率过高会影响到成像时的质量，在成像时造成“眩光”或者“鬼影”的现象。

基于此，需要一种可以有效降低光学元件对于入射光的反射率，提高进光量的方案。