[发明专利]离子源安装结构及离子源装置在审
申请号: | 202010850672.7 | 申请日: | 2020-08-21 |
公开(公告)号: | CN111834186A | 公开(公告)日: | 2020-10-27 |
发明(设计)人: | 刘伟基;吴秋生;冀鸣;易洪波;赵刚 | 申请(专利权)人: | 中山市博顿光电科技有限公司;佛山市博顿光电科技有限公司 |
主分类号: | H01J27/02 | 分类号: | H01J27/02;H01J27/14 |
代理公司: | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人: | 刘延喜 |
地址: | 528400 广东省中山市火*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 离子源 安装 结构 装置 | ||
1.一种离子源安装结构,应用于离子源装置上,其特征在于,所述离子源装置包括至少一个霍尔离子源和至少一个中空阴极;所述中空阴极设于距离所述霍尔离子源一设定位置处,为所述霍尔离子源提供中和电子;
该安装结构包括:离子源底座、角度调节机构和基座;
所述霍尔离子源安装在离子源底座上,所述离子源底座通过角度调节机构安装在基座上,所述离子源底座通过角度调节机构进行转动,以调整霍尔离子源的发射角度。
2.根据权利要求1所述的离子源安装结构,其特征在于,还包括旋转接头;
所述中空阴极通过旋转接头安装在基座上,所述中空阴极通过所述旋转接头进行自由转动,调整中和电子的发射方向。
3.根据权利要求1所述的离子源安装结构,其特征在于,所述霍尔离子源通过滑轨固定在所述离子源底座上,通过所述滑轨滑动调整所述霍尔离子源的位置。
4.根据权利要求1所述的离子源安装结构,其特征在于,还包括:可伸缩支架,所述可伸缩支架的一端设有安装底座,另一端连接所述基座。
5.根据权利要求1所述的离子源安装结构,其特征在于,所述离子源底座上设置有多组定位孔,所述霍尔离子源通过任意一组所述定位孔固定在离子源底座设定位置上。
6.根据权利要求1-4任一项所述的离子源安装结构,其特征在于,所述角度调节机构内设有驱动电机,通过该驱动电机进行驱动调整霍尔离子源的角度;
所述旋转接头内设有驱动电机,通过该驱动电机进行驱动调整中空阴极的发送方向;
所述滑轨内设有驱动电机,通过该驱动电机进行驱动调整霍尔离子源在离子源底座上的位置;
和/或
所述可伸缩支架内设有驱动电机,通过该驱动电机进行驱动调整伸缩高度。
7.根据权利要求6所述的离子源安装结构,其特征在于,还包括分别与所述角度调节机构、旋转接头、滑轨和可伸缩支架连接的控制器;所述控制器用于输出控制信号控制所述角度调节机构、旋转接头、滑轨和可伸缩支架内设的驱动电机。
8.根据权利要求7所述的离子源安装结构,其特征在于,还包括连接所述控制器的人机交互模块,用于接收输入的最佳调节参数传输至所述控制器;其中,所述最佳调节参数包括离子源最佳角度、中空阴极最佳方向、离子源最佳位置和/或支架最佳高度。
9.根据权利要求8所述的离子源安装结构,其特征在于,所述最佳调节参数的获取方法包括:
对真空镀膜机使用后基片的表面厚度检测,得到多个位置的厚度参数;
根据厚度数据计算离子源最佳角度、中空阴极最佳方向、离子源最佳位置和/或支架最佳高度。
10.一种离子源装置,其特征在于,包括至少一个霍尔离子源、至少一个中空阴极以及权利要求1-9任一项所述的离子源安装结构;
所述中空阴极设于距离所述霍尔离子源一设定位置处,为所述霍尔离子源提供中和电子;
所述霍尔离子源和中空阴极安装在所述离子源安装结构上。
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