[发明专利]离子源安装结构及离子源装置

说明书

本申请涉及一种离子源安装结构和离子源装置，应用于离子源装置上，所述离子源装置包括至少一个霍尔离子源和至少一个中空阴极；所述中空阴极设于距离所述霍尔离子源一设定位置处，为所述霍尔离子源提供中和电子；该安装结构包括：离子源底座、角度调节机构和基座；所述霍尔离子源安装在离子源底座上，所述离子源底座通过角度调节机构安装在基座上，所述离子源底座通过角度调节机构进行转动，以调整霍尔离子源的发射角度。通过本申请的技术方案，可以根据镀膜需求来调整霍尔离子源的角度，从而可以提升离子源覆盖效果，提高使用效率。

技术领域

本申请涉及离子源技术领域，尤其是一种离子源安装结构及离子源装置。

背景技术

离子离子源是一门用途广，类型多、涉及科学多、工艺技术性强、发展十分迅速的应用科学技术。霍尔离子源作为一种十分常用的离子源类型，多应用于薄膜沉积领域，作为沉积辅助部件，提高薄膜物理特性。

离子源装置用于真空镀膜机中进行镀膜，但是由于镀膜过程中，不同的镀膜对象需要有不同覆盖范围和不同密度离子束，才能获得较佳的使用效果。而目前离子源装置安装在真空镀膜机中一般都是固定安装，针对不同镀膜对象时也无法进行调节，导致离子源覆盖效果差，使用效率较低。

发明内容

本申请的目的旨在解决上述的技术缺陷之一，特别是离子源覆盖效果差，使用效率较低的缺陷，提供一种离子源安装结构及离子源装置。

一种离子源安装结构，应用于离子源装置上，所述离子源装置包括至少一个霍尔离子源和至少一个中空阴极；所述中空阴极设于距离所述霍尔离子源一设定位置处，为所述霍尔离子源提供中和电子；

该安装结构包括：离子源底座、角度调节机构和基座；

所述霍尔离子源安装在离子源底座上，所述离子源底座通过角度调节机构安装在基座上，所述离子源底座通过角度调节机构进行转动，以调整霍尔离子源的发射角度。

在一个实施例中，所述的离子源安装结构，还包括旋转接头；

所述中空阴极通过旋转接头安装在基座上，所述中空阴极通过所述旋转接头进行自由转动，调整中和电子的发射方向。

在一个实施例中，所述霍尔离子源通过滑轨固定在所述离子源底座上，通过所述滑轨滑动调整所述霍尔离子源的位置。

在一个实施例中所述的离子源安装结构，还包括：可伸缩支架，所述可伸缩支架的一端设有安装底座，另一端连接所述基座。

在一个实施例中，所述离子源底座上设置有多组定位孔，所述霍尔离子源通过任意一组所述定位孔固定在离子源底座设定位置上。

在一个实施例中，所述角度调节机构内设有驱动电机，通过该驱动电机进行驱动调整霍尔离子源的角度；

所述旋转接头内设有驱动电机，通过该驱动电机进行驱动调整中空阴极的发送方向；

所述滑轨内设有驱动电机，通过该驱动电机进行驱动调整霍尔离子源在离子源底座上的位置；

和/或

所述可伸缩支架内设有驱动电机，通过该驱动电机进行驱动调整伸缩高度。

在一个实施例中所述的离子源安装结构，还包括分别与所述角度调节机构、旋转接头、滑轨和可伸缩支架连接的控制器；所述控制器用于输出控制信号控制所述角度调节机构、旋转接头、滑轨和可伸缩支架内设的驱动电机。

在一个实施例中所述的离子源安装结构，还包括连接所述控制器的人机交互模块，用于接收输入的最佳调节参数传输至所述控制器；其中，所述最佳调节参数包括离子源最佳角度、中空阴极最佳方向、离子源最佳位置和/或支架最佳高度。

在一个实施例中，所述最佳调节参数的获取方法包括：