[发明专利]纳米压印设备及压印方法

权利要求书

1.一种纳米压印设备，其特征在于，包括：

下基盘，其上设置有透光区，且在所述下基盘上放置有PET，PET的表面经过增粘处理，胶体滴至所述PET上；

紫外固化装置，其位于所述下基盘下方，用于发射紫外光线，以通过透光区射向所述PET；

竖向移动机构，其具有可竖向移动的支撑臂；

上基盘，可翻转的连接于所述支撑臂上，且所述上基盘位于所述下基盘上方，其吸附面朝向所述下基盘；

真空发生装置，其与所述上基盘以及所述下基盘连接，以使所述上基盘的吸附面产生负压固定晶圆，所述下基盘的吸附面上负压固定PET，所述PET的尺寸大于所述晶圆的尺寸，所述上基盘压印工作时，其吸附面与所述下基盘的吸附面相对且平行，上料晶圆时，其吸附面与所述下基盘的吸附面相背且平行。

2.根据权利要求1所述的纳米压印设备，其特征在于：所述下基盘吸附面设置有第一真空槽，所述透光区位于所述第一真空槽内侧，所述第一真空槽内设置有第一真空孔，所述第一真空孔与所述真空发生装置通过管路连接。

3.根据权利要求1所述的纳米压印设备，其特征在于：所述紫外固化装置为紫外灯，所述真空发生装置为真空泵。

4.根据权利要求1所述的纳米压印设备，其特征在于：竖向移动机构还具有竖向导轨，所述支撑臂与所述竖向导轨连接，所述竖向导轨上设置有限位块，以限位所述支撑臂的竖向移动范围。

5.根据权利要求4所述的纳米压印设备，其特征在于：所述支撑臂为L型支撑臂，其包括横向部以及与所述横向部连接的竖向部，所述横向部与所述竖向导轨连接。

6.根据权利要求1所述的纳米压印设备，其特征在于：所述上基盘的吸附面上设置有通过多个同心环形槽组成的真空槽组，所述真空槽组上设置有连通槽，以使环形槽与环形槽之间连通，所述连通槽内设置有第二真空孔，所述第二真空孔与所述真空发生装置通过管路连接。

7.根据权利要求5所述的纳米压印设备，其特征在于：所述竖向部远离所述横向部一端连接有转轴以及前、后两块限位板，所述转轴与所述上基盘连接，且所述转轴上设置有限位部，所述上基盘压印工作时，所述限位部与所述前限位板相抵，上料晶圆时，所述限位部与所述后限位板相抵。

8.根据权利要求7所述的纳米压印设备，其特征在于：所述前、后两块限位板分别位于所述转轴的前侧以及转轴的后侧，且呈水平设置。

9.一种压印方法，采用权利要求1-8任一权利要求所述的纳米压印设备，其特征在于：包括以下步骤：

S1、上料：控制上基盘转动，以使其吸附面与下基盘的吸附面相背，将所述晶圆放置在上基盘的吸附面上，将PET放在下基盘的吸附面上，并覆盖透光区；

S2、固定晶圆及PET：控制真空发生装置工作，以在所述上基盘的吸附面上产生负压，将晶圆固定，在下基盘吸附面产生负压，将PET固定；

S3、滴胶：在PET的中心处滴加纳米压印模板复制材料用的胶体；

S4、压印：控制上基盘转动，以使吸附面与下基盘的吸附面相对，晶圆朝向下基盘的吸附面，控制支撑臂向下移动，以使上基盘上的晶圆向下基盘上的PET靠近，将胶体挤压，直至完全填充晶圆上的纳米结构；

S5、固化：紫外固化装置发出紫外光透过透光区射向PET将胶体固化。

10.根据权利要求9所述的压印方法，其特征在于：还包括步骤：S6、脱模：控制支撑臂向上移动，以使晶圆与固化的胶体分离，胶体粘附在PET表面。