[发明专利]纳米压印设备及压印方法

说明书

本发明提出一种纳米压印设备，包括：下基盘，其上设置有透光区，且在下基盘上放置有PET，PET的表面增粘处理，胶体滴至PET上；紫外固化装置，其位于下基盘下方，以通过透光区射向PET；竖向移动机构，其具有可竖向移动的支撑臂；上基盘，可翻转的连接于支撑臂上，且上基盘位于下基盘上方，其吸附面朝向下基盘；真空发生装置，其与上基盘以及下基盘连接。一种压印方法，包括以下步骤：1)、上料；2)、固定晶圆及PET；3)、滴胶；4)、压印；5)、固化。本发明中溢出的胶体由于重力原因沿PET流动，不会将晶圆粘在下基盘上，避免损坏晶圆，压印时，上基盘的吸附面与下基盘的吸附面上的PET平行，保证了压印质量以及合格率。

技术领域

本发明属于纳米压印技术领域，尤其涉及一种纳米压印设备及压印方法。

背景技术

纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段，达到了超高的分辨率，有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重要加工手段。现有的纳米压印设备在压印时，晶圆一般通过真空吸附固定，溢出的液态胶体向下流动，沿着晶圆流向基盘，可能会被吸入真空槽中，导致真空装置堵塞，进而损坏。另外，紫外灯将胶体固化后，固态的胶体将晶圆粘附在基盘上，很难将晶圆从基盘上取下，会导致晶圆的损坏，废品率增加，加大生产成本。

发明内容

本发明针对上述的技术问题，提出一种纳米压印设备及压印方法，在复制过程中，PET始终在晶圆下方，溢出的胶体由于重力原因沿PET流动，不会将晶圆粘在下基盘上，避免损坏晶圆，压印时，上基盘的吸附面与下基盘的吸附面上的PET平行，保证了整体的平整度，进而保证了压印质量以及合格率。

为了达到上述目的，本发明采用的技术方案为：一种纳米压印设备，包括：

下基盘，其上设置有透光区，且在所述下基盘上放置有PET，PET覆盖透光区，且PET的材质为透明材质，PET的表面经过增粘处理，胶体滴至所述PET的表面上，且位于透光区内，优选为透光区的中心位置；

紫外固化装置，其位于所述下基盘下方，用于发射紫外光线，以通过透光区射向所述PET，用于固化胶体；

竖向移动机构，其具有可竖向上下移动的支撑臂；

上基盘，可翻转的连接于所述支撑臂上，且所述上基盘位于所述下基盘上方，其吸附面朝向所述下基盘；

真空发生装置，其与所述上基盘以及所述下基盘连接，以使所述上基盘的吸附面产生负压固定晶圆，所述下基盘的吸附面上负压固定PET，所述PET的尺寸大于所述晶圆的尺寸，所述上基盘压印工作时，其吸附面与所述下基盘的吸附面相对且平行，上料晶圆时，其吸附面与所述下基盘的吸附面相背且平行。

在本发明的一些实施例中，所述下基盘吸附面设置有第一真空槽，所述透光区位于所述第一真空槽内侧，所述第一真空槽内设置有第一真空孔，所述第一真空孔与所述真空发生装置通过管路连接。

在本发明的一些实施例中，所述紫外固化装置为紫外灯，所述真空发生装置为真空泵。

在本发明的一些实施例中，竖向移动机构还具有竖向导轨，所述支撑臂与所述竖向导轨连接，所述竖向导轨上设置有限位块，以限位所述支撑臂的竖向移动范围。

在本发明的一些实施例中，所述支撑臂为L型支撑臂，其包括横向部以及与所述横向部连接的竖向部，所述横向部与所述竖向导轨连接。

在本发明的一些实施例中，所述上基盘的吸附面上设置有通过多个同心环形槽组成的真空槽组，所述真空槽组上设置有连通槽，以使环形槽与环形槽之间连通，所述连通槽内设置有第二真空孔，所述第二真空孔与所述真空发生装置通过管路连接。