[发明专利]掩膜版和蒸镀装置

权利要求书

1.一种掩膜版，其特征在于，包括掩膜版框架和至少一条掩膜条；所述掩膜版框架包括第一组边框和第二组边框，所述第一组边框和所述第二组边框均包括两个相对设置的边框；

所述掩膜条设置于所述第一组边框上，沿所述掩膜版框架指向所述掩膜条的方向，所述第一组边框中的每一边框的高度由边框中间向边框两端减少；和/或，

还包括至少一条第一支撑结构，所述第一支撑结构设置于所述第二组边框上，沿所述掩膜版框架指向所述第一支撑结构的方向，所述第二组边框中的每一边框的高度由边框中间向边框两端减少。

2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，沿所述掩膜版框架指向所述掩膜条的方向，所述第一组边框中的每一边框和/或所述第二组边框中的每一边框为弧形。

3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一组边框包括第一边框和第二边框，所述第一边框和所述第二边框在所述掩膜版框架指向所述掩膜条的方向上的投影沿第一方向延伸，沿第二方向具有第一中线，所述第一边框和所述第二边框分别沿所述第一中线对称；沿所述掩膜版框架指向所述掩膜条的方向，所述第一边框的最大高度差和所述第二边框的最大高度差相等；其中，所述第一方向为所述掩膜条的宽度方向，所述第二方向为所述掩膜条的长度方向。

4.根据权利要求2或3所述的掩膜版，其特征在于，所述第二组边框包括第三边框和第四边框，所述第三边框和所述第四边框沿所述第二方向延伸，沿所述第一方向具有第二中线，所述第三边框和所述第四边框分别沿所述第二中线对称；沿所述掩膜版框架指向所述掩膜条的方向，所述第三边框的最大高度差和所述第四边框的最大高度差相等。

5.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，沿所述掩膜版框架指向所述掩膜条的方向，所述掩膜版框架的任一边框的最大高度差小于或等于待蒸镀结构的重力下垂距离。

6.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，还包括至少一条第二支撑结构；沿第二方向，所述第二支撑结构设置于所述第一组边框上；其中，所述第二方向为所述掩膜条的长度方向。

7.根据权利要求6所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜条为多条，每一所述掩膜条包括多个开口；所述第一支撑结构为多条，所述第二支撑结构为多条；沿第一方向，所述第一支撑结构设置于所述掩膜条的相邻所述开口之间；沿所述第二方向，所述第二支撑结构设置于相邻所述掩膜条之间；其中，所述第一方向为所述掩膜条的宽度方向。

8.根据权利要求6所述的掩膜版，其特征在于，沿所述掩膜版框架指向所述掩膜条的方向，所述第一支撑机构设置于所述掩膜条和所述第二支撑结构之间；所述掩膜条与所述第一支撑结构接触，所述第一支撑结构与所述第二支撑结构接触，所述第一支撑结构和第二支撑结构与所述掩膜版框架接触。

9.一种蒸镀装置，其特征在于，包括蒸镀源和权利要求1-8任一项所述的掩膜版；

所述蒸镀源设置于所述掩膜版的第一侧，所述掩膜版的第二侧设置有待蒸镀结构；其中，所述掩膜版的第一侧为所述掩膜版框架远离所述掩膜条的一侧。

10.根据权利要求9所述的蒸镀装置，其特征在于，所述掩膜版包括多个开口区，所述待蒸镀基板包括多个像素限定区，所述开口区与所述像素限定区一一对应。