[发明专利]掩膜版和蒸镀装置

说明书

本发明公开了一种掩膜版和蒸镀装置。该掩膜版包括掩膜版框架和至少一条掩膜条；掩膜版框架包括第一组边框和第二组边框，第一组边框和第二组边框均包括两个相对设置的边框；掩膜条设置于第一组边框上，沿掩膜版框架指向掩膜条的方向，第一组边框中的每一边框的高度由边框中间向边框两端减少；和/或，还包括至少一条第一支撑结构，第一支撑结构设置于第二组边框上，沿掩膜版框架指向第一支撑结构的方向，第二组边框中的每一边框的高度由边框中间向边框两端减少。当待蒸镀结构和掩膜版具有下垂现象时，可以提高掩膜版下垂时对待蒸镀结构的承托作用，进而可以提高掩膜版的蒸镀精度，减小待蒸镀结构在蒸镀过程中不同区域的shadow不均现象。

技术领域

本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜版和蒸镀装置。

背景技术

在有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)显示面板的制作过程中，真空蒸镀是一种必要的工艺环节。在真空蒸镀时，有机发光材料通过精密金属掩膜版(Fine Metal Mask，FMM)沉积在阵列基板上，实现OLED器件的形成。在蒸镀过程中，由于重力的作用，阵列基板和掩膜版均具有一定下垂情况，掩膜版与阵列基板之间存在不同大小的真空间隙，容易出现蒸镀后像素错位及混色等风险，使得显示面板出现发光混色或区域性发光不均等显示问题。

发明内容

本发明提供一种掩膜版和蒸镀装置，以提高掩膜版的蒸镀精度。

第一方面，本发明实施例提供了一种掩膜版，包括掩膜版框架和至少一条掩膜条；所述掩膜版框架包括第一组边框和第二组边框，所述第一组边框和所述第二组边框均包括两个相对设置的边框；

所述掩膜条设置于所述第一组边框上，沿所述掩膜版框架指向所述掩膜条的方向，所述第一组边框中的每一边框的高度由边框中间向边框两端减少；和/或，

还包括至少一条第一支撑结构，所述第一支撑结构设置于所述第二组边框上，沿所述掩膜版框架指向所述第一支撑结构的方向，所述第二组边框中的每一边框的高度由边框中间向边框两端减少。

可选地，沿所述掩膜版框架指向所述掩膜条的方向，所述第一组边框中的每一边框和/或所述第二组边框中的每一边框为弧形。。

可选地，所述第一组边框包括第一边框和第二边框，所述第一边框和所述第二边框在所述掩膜版框架指向所述掩膜条的方向上的投影沿第一方向延伸，沿第二方向具有第一中线，所述第一边框和所述第二边框分别沿所述第一中线对称；沿所述掩膜版框架指向所述掩膜条的方向，所述第一边框的最大高度差和所述第二边框的最大高度差相等；其中，所述第一方向为所述掩膜条的宽度方向，所述第二方向为所述掩膜条的长度方向。

可选地，所述第二组边框包括第三边框和第四边框，所述第三边框和所述第四边框沿所述第二方向延伸，沿所述第一方向具有第二中线，所述第三边框和所述第四边框分别沿所述第二中线对称；沿所述掩膜版框架指向所述掩膜条的方向，所述第三边框的最大高度差和所述第四边框的最大高度差相等。

可选地，沿所述掩膜版框架指向所述掩膜条的方向，所述掩膜版框架的任一边框的最大高度差小于或等于待蒸镀结构的重力下垂距离。

可选地，掩膜版还包括至少一条第二支撑结构；沿第二方向，所述第二支撑结构设置于所述第一组边框上；其中，所述第二方向为所述掩膜条的长度方向。

可选地，所述掩膜条为多条，每一所述掩膜条包括多个开口；所述第一支撑结构为多条，所述第二支撑结构为多条；沿第一方向，所述第一支撑结构设置于所述掩膜条的相邻所述开口之间；沿所述第二方向，所述第二支撑结构设置于相邻所述掩膜条之间；其中，所述第一方向为所述掩膜条的宽度方向。