[发明专利]初始阵列基板及其制作方法、检测方法

说明书

本公开实施例提供一种初始阵列基板的制作方法，包括：提供初始基板，所述初始基板包括显示区、开孔区、隔离区和检测区，检测区位于显示区的外围，隔离区围绕开孔区设置；在隔离区形成隔离柱过渡图形层，隔离柱过渡图形层包括至少一个过渡隔离柱；在检测区形成测试导电层，测试导电层包括第一测试导电图形和第二测试导电图形，第一测试导电图形的形状与第二测试导电图形的形状相同；形成绝缘遮挡层，绝缘遮挡层覆盖第二测试导电图形；对形成有绝缘遮挡层的初始基板进行刻蚀，以使得过渡隔离柱被刻蚀形成为隔离柱，隔离柱中部的横截面积小于隔离柱顶部和底部的横截面积。本公开实施例还提供一种初始阵列基板、一种初始阵列基板的检测方法。

技术领域

本公开实施例涉及显示技术领域，特别涉及一种初始阵列基板的制作方法、一种初始阵列基板、一种初始阵列基板的检测方法。

背景技术

全面屏是指具有超高屏占比的显示屏，理想的全面屏的屏占比为100％。为了实现全面屏，需要在屏幕内的一定位置打孔，以安装摄像头、听筒、传感器等部件。但是，在屏幕内打孔，会使得氧气、水汽等被吸水性较好的有机膜层吸收而导致显示面板的寿命缩短。

现有技术中，常在开孔位置与显示面板的显示区之间设置隔离柱，从而阻止氧气、水汽等被有机膜层的吸收后进一步扩散到显示区。

如何确认显示面板上已经形成了符合要求的隔离柱成为本领域亟待解决的技术问题。

发明内容

本公开实施例提供一种初始阵列基板的制作方法、一种初始阵列基板、一种初始阵列基板的检测方法。

第一方面，本公开实施例提供一种初始阵列基板的制作方法，所述制作方法包括：

提供初始基板，所述初始基板包括显示区、开孔区、隔离区和检测区，所述检测区位于所述显示区的外围，所述隔离区围绕所述开孔区设置；

在所述隔离区形成隔离柱过渡图形层，所述隔离柱过渡图形层包括至少一个过渡隔离柱，每一个所述过渡隔离柱围绕所述开孔区一周设置；

在所述检测区形成测试导电层，所述测试导电层包括第一测试导电图形和第二测试导电图形，所述第一测试导电图形的形状与所述第二测试导电图形的形状相同；

形成绝缘遮挡层，所述绝缘遮挡层覆盖所述第二测试导电图形；

对形成有所述绝缘遮挡层的初始基板进行刻蚀，以使得所述过渡隔离柱被刻蚀形成为隔离柱，所述隔离柱中部的横截面积小于所述隔离柱顶部的横截面积，也小于所述隔离柱底部的横截面积。

在一些实施例中，所述第一测试导电图形包括多个主体部和多个连接部，多个主体部排列为多行多列，每行中的多个所述主体部间隔设置，不同行的主体部电连接；

所述主体部包括相对设置的两个纵向导电条和在所述纵向导电条的一端连接两个纵向导电条的横向导电条，

所述连接部连接在相邻两个主体部之间，且将两个主体部的纵向导电条电连接。

在一些实施例中，所述测试导电层还包括第一接触图形和第二接触图形，

所述第一接触图形与所述第一测试导电图形电连接；

所述第二接触图形与所述第二测试导电图形电连接。

在一些实施例中，在所述隔离区形成隔离柱过渡图形层的步骤和在所述检测区形成测试导电层的步骤同步进行，以使得所述隔离柱过渡层和所述测试导电层同层设置。

在一些实施例中，所述制作方法还包括与形成隔离柱过渡层同步进行的形成源漏图形层的步骤。

在一些实施例中，在所述隔离区形成隔离柱过渡图形层的步骤和在所述检测区形成测试导电层的步骤包括：

形成第一金属过渡层；