[发明专利]一种高抗弯折性ITO透明导电膜在审
| 申请号： | 202010878762.7 | 申请日： | 2020-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN111933330A | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | 吕敬波;陈超;于佩强;高毓康;胡业新 | 申请（专利权）人： | 江苏日久光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14 |
| 代理公司： | 苏州科仁专利代理事务所(特殊普通合伙) 32301 | 代理人： | 郭杨 |
| 地址： | 215000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 高抗弯折性 ito 透明 导电 | ||
1.一种高抗弯折性ITO透明导电膜，包括基材层，其特征在于：所述基材层的一面由内向外依次涂布有第一底涂层、真空磁控溅射镀有氧化铟锡层，
其中所述第一底涂层为丙烯酸树脂层、聚氨酯树脂层或者有机硅树脂层，厚度为10~50nm，折射率为1.48~1.7；
所述氧化铟锡层镀附于第一底涂层表面，厚度15~50nm，铟锡比90：10-93：7，结晶后电阻25~170欧姆。
2.根据权利要求1所述的一种高抗弯折性ITO透明导电膜，其特征在于：所述第一底涂层为丙烯酸树脂层，厚度为30nm，折射率为1.50。
3.根据权利要求1所述的一种高抗弯折性ITO透明导电膜，其特征在于：所述氧化铟锡层的厚度为18nm，铟锡比93：7。
4.根据权利要求1所述的一种高抗弯折性ITO透明导电膜，其特征在于：所述基材层的另一面上涂布有第二底涂层，而在第二底涂层上涂布有加硬层，
其中所述第二底涂层为丙烯酸树脂层、聚氨酯树脂层或者有机硅树脂层，厚度为30~200nm，折射率为1.55~1.59；
所述加硬层为丙烯酸树脂层，厚度为0.3~3μm，折射率1.48~1.54，硬度为铅笔硬度1H~3H。
5.根据权利要求4所述的一种高抗弯折性ITO透明导电膜，其特征在于：所述第二底涂层厚度为80nm，折射率为1.57。
6.根据权利要求4所述的一种高抗弯折性ITO透明导电膜，其特征在于：所述加硬层厚度为1μm，折射率为1.5，硬度为铅笔硬度1H。
7.根据权利要求1所述的一种高抗弯折性ITO透明导电膜，其特征在于：所述基材层为PET层、透明PI层、PC层、COP层、PMMA层、玻璃层、聚酯塑料层、环氧塑料层或者芳纶塑料层，厚度为4~700μm。
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