[发明专利]掩膜版及蒸镀装置

权利要求书

1.一种掩膜版，其特征在于，包括：

框架；

多个支撑条和多个掩膜条，平行间隔设置于所述框架的第一表面，且相邻所述支撑条之间设置有一个所述掩膜条；

其中，所述支撑条远离所述框架一侧表面在所述第一表面上的正投影的面积小于其靠近所述框架一侧表面在所述第一表面上的正投影的面积；所述掩膜条远离所述框架一侧表面在所述第一表面上的正投影的面积大于其靠近所述框架一侧表面在所述第一表面上的正投影的面积；

所述支撑条邻近所述掩膜条的边缘设置有第一台阶部，所述第一台阶部包括与所述第一表面平行的第一台阶面；所述掩膜条邻近所述支撑条的边缘设置有第二台阶部，所述第二台阶部包括与所述第一表面平行的第二台阶面；所述第二台阶面与所述第一台阶面搭接，且所述支撑条远离所述框架的一侧表面高于所述掩膜条；

所述支撑条包括：

第一子支撑条，设置于所述第一表面上；

第二子支撑条，至少部分位于所述第一子支撑条远离所述框架一侧，且所述第二子支撑条的宽度小于所述第一子支撑条的宽度，所述第一子支撑条靠近所述第二子支撑条的表面包括所述第一台阶面；

在所述第一子支撑条的长度方向上，所述第一子支撑条与所述框架接触的两端分别设置有至少一个开口，所述框架对应所述开口的位置设置有凸部，所述凸部的高度大于等于所述开口的深度，所述第二子支撑条与所述凸部固定连接；或；

在所述第一子支撑条的长度方向上，所述第一子支撑条对应所述第二子支撑条的位置具有凹槽，至少部分所述第二子支撑条填充所述凹槽。

2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，

位于所述第一子支撑条远离所述框架一侧的所述第二子支撑条的部分的高度大于所述掩膜条的厚度。

3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，当在所述第一子支撑条的长度方向上，所述第一子支撑条与所述框架接触的两端分别设置有至少一个开口，所述框架对应所述开口的位置设置有凸部，所述凸部的高度大于等于所述开口的深度，所述第二子支撑条与所述凸部固定连接时，

所述凸部的高度与所述开口的深度之间具有第一差值，所述第二子支撑条远离所述框架一侧表面与所述掩膜条远离所述框架一侧表面之间具有第二差值，所述第一差值小于所述第二差值。

4.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，当在所述第一子支撑条的长度方向上，所述第一子支撑条对应所述第二子支撑条的位置具有凹槽，至少部分所述第二子支撑条填充所述凹槽时，

所述凹槽贯通所述第一子支撑条，所述第二子支撑条在长度方向上的两端与所述框架固定。

5.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，

所述第二子支撑条在长度方向上的两端和所述框架一体成型。

6.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，

所述第一台阶部包括与所述第一台阶面相交的第一侧壁，相邻所述第一侧壁之间的距离大于位于相邻所述第一侧壁之间的所述掩膜条的宽度。

7.一种蒸镀装置，其特征在于，包括权利要求1-6任一项所述的掩膜版。