[发明专利]一种磨砂面手机后盖及制备方法

权利要求书

1.一种磨砂面手机后盖的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

注塑成型：注塑模具的母模面经过雾面晒纹处理，纹理深度为15~20um，光泽度25~30，采用光学级透明塑料在注塑模具内进行注塑成型，制得具有表面磨砂效果的裙边结构；

硬化处理：将注塑成型后的材料表面使用硬化液进行硬化处理；

制备防爆膜：依次经过UV纹理转印、OPVD镀膜、印刷底色、镭雕切割后制得防爆膜成品；

贴合：将硬化处理后的材料与防爆膜成品进行贴合；

CNC加工成型：将贴合处理后的材料进行CNC加工，得到具有磨砂面的手机后盖。

2.根据权利要求1所述的一种磨砂面手机后盖的制备方法，其特征在于，还包括进行LOGO字符印刷，在硬化处理后，对材料进行镜面银油墨和丝印网版印刷处理，制得LOGO字符。

3.根据权利要求1所述的一种磨砂面手机后盖的制备方法，其特征在于，所述注塑成型的工艺步骤为：塑料材料熔融→上模→调试→合模→射胶填充→保压成型→冷却→开模。

4.根据权利要求3所述的一种磨砂面手机后盖的制备方法，其特征在于，所述射胶填充的注射压力为80~130MPa，注射时间为2~5s。

5.根据权利要求3所述的一种磨砂面手机后盖的制备方法，其特征在于，所述保压成型的压力为40~60MPa，保压时间为20~40s。

6.根据权利要求1所述的一种磨砂面手机后盖的制备方法，其特征在于，所述光学级透明塑料由改性聚碳酸酯制成。

7.根据权利要求1所述的一种磨砂面手机后盖的制备方法，其特征在于，所述裙边结构的宽度为15~20mm，所述裙边结构的背面设有至少2道防水沟槽。

8.根据权利要求1所述的一种磨砂面手机后盖的制备方法，其特征在于，所述硬化液包括哑光硬化液和稀释剂，所述哑光硬化液和稀释剂质量比例范围为100：（130~180）。

9.根据权利要求8所述的一种磨砂面手机后盖的制备方法，其特征在于，所述哑光硬化液包含聚氨酯丙烯酸酯和引发剂，质量比为100：(5~10)；所述稀释剂包含正丁醇和乙酸乙酯，质量比为100：（60~100）。

10.一种磨砂面手机后盖，所述手机后盖采用权利要求1～9中任意一项所述的一种磨砂面手机后盖的制备方法制成，成品的厚度为0.5~1.2mm。