[发明专利]涂布装置在审
申请号: | 202010885914.6 | 申请日: | 2020-08-28 |
公开(公告)号: | CN112447559A | 公开(公告)日: | 2021-03-05 |
发明(设计)人: | 松近启司;松泰司;俵谷佳典;铃木优史;西山耕二;村井征尔;福本靖博 | 申请(专利权)人: | 株式会社斯库林集团 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/683 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 陈甜甜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 | ||
本发明涉及一种涂布装置。形成有多个孔部(43)的截流环(41)配置在内罩(21)的下端(26A),且具有与外罩(23)的从外周壁(29)到间壁(31)为止的宽度大致相同的环宽。由于从内罩(21)滴落的涂布液的一部分被截流环(41)拦截,因此能够防止因冰柱状的涂布液导致底排气通路(PT2)堵塞。另外,当气体从外排气通路(PT1)流向底排气通路(PT2)时,截流环(41)能够捕获涂布液雾气。进而,当气体从底排气通路(PT2)流向内排气通路(PT3)时,截流环(41)能够进一步捕获残留的涂布液雾气。能够提高处理液雾气的捕获效率。
技术领域
本发明涉及一种将涂布液涂布在衬底表面的涂布装置。衬底例如可列举:半导体衬底、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)用衬底、光罩用玻璃衬底、光碟用衬底、磁碟用衬底、陶瓷衬底、太阳电池用衬底等。FPD例如可列举:液晶显示装置、有机EL(electroluminescence,电致发光)显示装置等。
背景技术
以往的涂布装置是通过向衬底上供给涂布液,并使衬底旋转而将涂布液涂布在衬底上。此时,多余的涂布液因离心力而飞散到衬底外。飞散到衬底外的涂布液利用防飞散罩(以下,称作“罩”)进行回收(例如,参照专利文献1~3)。
此外,专利文献1中揭示了一种捕雾器,其在将罩内的气体向外部排出的排气通路内、且在排气口附近,捕捉罩内气体中所含有的涂布液雾气。
专利文献2中揭示了一种截流部件,其捕捉悬浮的线状涂布液。截流部件具有多个孔部。截流部件配置为将上下方向的排气通路从下侧拦截。截流部件利用螺丝,经由间隔片安装在整流部件。由于截流部件形成为大于整流部件的外径,因此能够使洗净液滴在截流部件的上表面,使得附着在截流部件的孔部的涂布液被洗净液洗净并去除。
专利文献3中揭示了一种涂布液捕获部件,其捕获线状涂布液。涂布液捕获部件具有多个开口部,且构成为能够贮存溶剂。线状涂布液与贮存在涂布液捕获部件的溶剂接触而被溶解。
[先前技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]
日本专利特开2003-080159号公报
[专利文献2]
日本专利特开2016-184644号公报
[专利文献3]
日本专利特开2019-046833号公报
发明内容
[发明要解决的问题]
然而,以往的装置存在以下问题。如果因衬底的旋转使得多余的处理液飞散,那么会产生涂布液雾气。涂布液雾气有可能会附着在排气通路的内壁而堵塞排气通路。可设置捕雾器以捕获(捕捉)涂布液雾气。但是,以往的捕雾器有可能捕获效果不充分。另外,如图15所示,有可能涂布液在内罩121的下端成为冰柱状(符号IC)而堵塞排气通路。
本发明是鉴于如上所述的情况而完成的,其目的在于提供一种能够防止因冰柱状的涂布液导致排气通路堵塞,且能够提高处理液雾气的捕获效率的涂布装置。
[解决问题的技术手段]
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- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造