[发明专利]一种减少硅片接触印记的湿法花篮在审
申请号: | 202010890055.X | 申请日: | 2020-08-28 |
公开(公告)号: | CN111933559A | 公开(公告)日: | 2020-11-13 |
发明(设计)人: | 邢显邦;李海波;肖文明;杨灼坚 | 申请(专利权)人: | 江苏润阳悦达光伏科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673;H01L31/18 |
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地址: | 224000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 减少 硅片 接触 印记 湿法 花篮 | ||
本发明提供一种减少硅片接触印记的湿法花篮,包括支架面板和花篮杆,其特征在于,所述支架面板内设置有气路通道,所述花篮杆为中空柱状,成组对称的固定于两块所述支架面板中间,与所述气路通道连通,所述花篮杆外壁上设置有凸出的花篮齿,所述花篮杆上在对应花篮齿的位置处开有通孔。本发明通过气路通道与花篮杆连通的设计,于花篮齿处的通孔进行液体或气体的输出,有效的清洁硅片上花篮齿位置处的印记,解决硅片上花篮齿处残留水渍的问题,进而改善硅片上花篮齿位置和其他位置绒面的均匀性,同时减少花篮齿位置带液造成的各种不良及返工。
技术领域
本发明属于太阳能电池领域,尤其涉及一种减少硅片接触印记的湿法花篮。
背景技术
随着社会的发展,人力成本的逐渐上升,光伏领域内电池片良率的提升已经成为降本增效的重要手段。在晶硅太阳电池生产中,湿法技术是不可或缺的工艺流程,如切割后的硅片表面清洗损伤层、电池预清洗与制绒、刻蚀与抛光等工序都会用到湿法处理工艺。由于槽式湿法处理过程中需要把大量脆性硅片均匀分开、逐一浸入各个反应槽中进行定时定量的化学反应,因此需要适当器具将硅片均匀分层放置,湿法花篮目前作为该步骤最重要工装治具,在装夹硅片时普遍在其上存在花篮篮齿印记,并在篮齿处反应不均或伴随残液的缺陷问题,进而造成硅片的返工,影响电池片的良率和效率。
发明内容
鉴于以上,本发明提供一种减少硅片接触印记的湿法花篮,本发明通过气路通道与花篮杆连通的设计,于花篮齿处的通孔进行液体或气体的输出,有效的清洁硅片上花篮齿位置处的印记,解决硅片上花篮齿处残留水渍的问题,进而改善硅片上花篮齿位置和其他位置绒面的均匀性,同时减少花篮齿位置带液造成的各种不良及返工。
本发明具体技术方案如下:
一种减少硅片接触印记的湿法花篮,包括支架面板和花篮杆,其特征在于,所述支架面板内设置有气路通道,所述花篮杆为中空柱状,成组对称的固定于两块所述支架面板中间,与所述气路通道连通,所述花篮杆外壁上设置有凸出的花篮齿,所述花篮杆上在对应花篮齿的位置上方开有一排通孔。
进一步,两块所述支架面板之间还设置有底杠,位于所述花篮杆的下方。
进一步,所述支架面板底端设置有连接口,外部气体由连接口进入气路通道。
进一步,所述支架面板外部还活动的设置有气路控制阀,用来控制气路通道内气体或液体的流量。
本发明附加的方面和优点将在下面的描述中进一步给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本发明的实践了解到。
附图说明
图1为本发明减少硅片接触印记的湿法花篮的正面结构示意图;
其中,1为支架面板,2为花篮杆,3为气路通道,4为花篮齿,5为通孔,6为底杠,7为连接口,8为气路控制阀。
具体实施方式
下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本发明,而不能解释为对本发明的限制。
参照图1,减少硅片接触印记的湿法花篮的一种实施例,包括支架面板1和花篮杆2,支架面板1内设置有气路通道3,花篮杆2为中空柱状,成组对称的固定于两块支架面板2中间,与气路通道3连通,在本实施例中,花篮杆2的数量优选4根,对称的分为两组,水平位置上对称设置的两根为一组,两组于支架面板1上纵向分布。花篮杆2外壁上设置有凸出的花篮齿4,用于卡接硅片,花篮杆2上在对应花篮齿4的位置上方开有一排通孔5,由通孔5处输出的气体或液体可直接流至花篮齿5接触的硅片上,在其他实施例中花篮杆2上在对应花篮齿4的位置下方开有一排通孔5,或花篮杆2上在对应花篮齿4的位置处上、下方分别开有一排通孔5。
优选的,两块支架面板1之间还设置有底杠6,位于花篮杆2的下方,底杠6用于承托硅片。
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