[发明专利]间歇反应釜温度自动控制方法、存储介质和系统有效
申请号: | 202010895411.7 | 申请日: | 2020-08-31 |
公开(公告)号: | CN112000149B | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 卢大鹏;田宇;王远辉;董玉玺;张宏科 | 申请(专利权)人: | 万华化学集团股份有限公司;万华化学(宁波)有限公司 |
主分类号: | G05D23/19 | 分类号: | G05D23/19 |
代理公司: | 北京信诺创成知识产权代理有限公司 11728 | 代理人: | 沈玮玮;杨仁波 |
地址: | 264006 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 间歇 反应 温度 自动控制 方法 存储 介质 系统 | ||
本发明提供一种间歇反应釜温度自动控制方法、存储介质和系统。间歇反应釜温度自动控制方法包括如下步骤:在采样时刻t获取间歇反应釜内的温度检测值vt和PID控制器的温度设定值st,得到采样时刻t对应的偏差变化率,在每一设定周期内,根据相邻两采样时刻的偏差变化率的关系确定间歇反应釜内的控制指标变化时长ti以及与其对应的偏差变化率Δei,根据二者得到设定周期内的温度偏差变化参数e′、偏差时间变化参数t′和偏差变化率变化参数Δe′;根据三个变化参数更新PID控制器的比例控制参数值、积分控制参数值和微分控制参数值。本发明的以上方案,能够在间歇反应釜反应过程中自动更新PID控制器的各参数,提高PID控制器的控制效率和稳定性。
技术领域
本发明涉及化工技术领域,具体涉及一种间歇反应釜温度自动控制方法、存储介质和系统。
背景技术
近些年随着化工行业的发展,越来越多的高质量、多功能产品需求日益增加。间歇化工过程具有小批量、操作灵活等特点,广泛应用于各种高端、定制化的产品生产中,所生产的产品通常根据客户的需求具有不同的牌号。
间歇反应釜用于间歇化工生产过程,PID控制器通过输出调节信号至间歇反应釜,调整间歇反应釜内的热源流量调节阀阀位或热源的温度,进而调整间歇反应釜内的温度,使间歇反应釜内的温度接近PID控制器的温度设定值,PID控制器参数涉及比例控制参数、积分控制参数和微分控制参数,各控制参数的变化,会影响输出的调节信号,进而影响间歇反应釜内的温度变化。现有技术中,PID控制器中各参数的参数值由操作人员设定,反应过程中,各参数值保持不变,在间歇反应釜内加入不同牌号产品时,需人为对PID控制器中各参数的参数值进行更新。人为设置参数和调整参数耗时长,对于操作人员的专业性要求较高,而且容易出现错误,因此,现有的间歇反应釜的温度控制时变性大、滞后性大、控制稳定性不高,需提出一种间歇反应釜温度自动控制方法、存储介质和系统。
发明内容
有鉴于此,本发明提供一种间歇反应釜温度自动控制方法、存储介质和系统,旨在通过特殊算法,使PID控制器各参数能够随反应进程自动更新,以克服现有技术的缺陷。
本发明提供一种间歇反应釜温度自动控制方法,包括如下步骤:在采样时刻t获取间歇反应釜内的温度检测值vt和PID控制器的温度设定值st,得到采样时刻t对应的偏差变化率Δet=et-et-1,其中et为采样时刻t的温度偏差,et=vt-st,et-1=vt-1-st-1;t-1为与采样时刻t相邻的前一采样时刻;在每一设定周期内,根据相邻两采样时刻的偏差变化率的关系确定间歇反应釜内的控制指标变化时长ti,以及,与控制指标变化时长ti对应的偏差变化率Δei;根据所述控制指标变化时长ti和与所述控制指标变化时长ti对应的偏差变化率Δei得到所述设定周期内的温度偏差变化参数e′、偏差时间变化参数t′和偏差变化率变化参数Δe′;根据所述设定周期内的温度偏差变化参数e′、偏差时间变化参数t′和偏差变化率变化参数Δe′更新所述设定周期内的PID控制器的比例控制参数值、积分控制参数值和微分控制参数值。
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