[发明专利]半导体装置有效

专利信息
申请号: 202010905470.8 申请日: 2020-09-01
公开(公告)号: CN113451508B 公开(公告)日: 2023-08-04
发明(设计)人: 手塚隆太;野口充宏;筱智彰 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: H10N97/00 分类号: H10N97/00;H01L25/16
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 张世俊
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 半导体 装置
【权利要求书】:

1.一种半导体装置,具备:

半导体衬底;

第1半导体层,在与所述半导体衬底的表面交叉的第1方向上与所述半导体衬底的表面对向;

第2半导体层,相比所述第1半导体层距所述半导体衬底较远,在所述第1方向上与所述第1半导体层对向;

第1导电层,相比所述第2半导体层距所述半导体衬底较远,连接于所述第2半导体层;

第3半导体层,在与所述第1方向交叉的第2方向上与所述第2半导体层并排,连接于所述第1半导体层;及

第2导电层,在所述第2方向上与所述第1导电层并排,连接于所述第3半导体层;且

所述第1半导体层、所述第2半导体层及所述第3半导体层是将与所述第1方向及所述第2方向交叉的第3方向作为长度方向。

2.根据权利要求1所述的半导体装置,其具备:

第4半导体层,在所述第2方向上与所述第3半导体层并排,相比所述第3半导体层距所述第2半导体层较远,在所述第1方向上与所述第1半导体层对向;及

第3导电层,在所述第2方向上与所述第2导电层并排,相比所述第2导电层距所述第1导电层较远,连接于所述第4半导体层;且

所述第4半导体层是将所述第3方向作为长度方向。

3.根据权利要求1所述的半导体装置,其具备:

第5半导体层,连接于所述第3半导体层在所述第3方向上的端部,将所述第2方向作为长度方向;及

第4导电层,连接于所述第2导电层在所述第3方向上的端部,将所述第2方向作为长度方向。

4.根据权利要求1所述的半导体装置,其

具备连接着键合线的焊垫电极,且

所述第1半导体层、所述第2半导体层及所述第3半导体层分别具备设置在从所述第1方向观察时与所述焊垫电极重叠的位置的部分、及设置在从所述第1方向观察时不与所述焊垫电极重叠的位置的部分。

5.根据权利要求4所述的半导体装置,其

具备连接于所述第1导电层及所述第2导电层的多个第1接触电极,且

所述多个第1接触电极设置在从所述第1方向观察时不与所述焊垫电极重叠的位置。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的半导体装置,其中

所述半导体衬底的与所述第1半导体层对向的区域设置着包含N型杂质的N阱。

7.根据权利要求6所述的半导体装置,其

具备连接着键合线的焊垫电极,且

具备连接于所述N阱的第2接触电极,

所述第2接触电极设置在从所述第1方向观察时与所述焊垫电极重叠的位置。

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