[发明专利]半导体装置有效
申请号: | 202010905470.8 | 申请日: | 2020-09-01 |
公开(公告)号: | CN113451508B | 公开(公告)日: | 2023-08-04 |
发明(设计)人: | 手塚隆太;野口充宏;筱智彰 | 申请(专利权)人: | 铠侠股份有限公司 |
主分类号: | H10N97/00 | 分类号: | H10N97/00;H01L25/16 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 张世俊 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
1.一种半导体装置,具备:
半导体衬底;
第1半导体层,在与所述半导体衬底的表面交叉的第1方向上与所述半导体衬底的表面对向;
第2半导体层,相比所述第1半导体层距所述半导体衬底较远,在所述第1方向上与所述第1半导体层对向;
第1导电层,相比所述第2半导体层距所述半导体衬底较远,连接于所述第2半导体层;
第3半导体层,在与所述第1方向交叉的第2方向上与所述第2半导体层并排,连接于所述第1半导体层;及
第2导电层,在所述第2方向上与所述第1导电层并排,连接于所述第3半导体层;且
所述第1半导体层、所述第2半导体层及所述第3半导体层是将与所述第1方向及所述第2方向交叉的第3方向作为长度方向。
2.根据权利要求1所述的半导体装置,其具备:
第4半导体层,在所述第2方向上与所述第3半导体层并排,相比所述第3半导体层距所述第2半导体层较远,在所述第1方向上与所述第1半导体层对向;及
第3导电层,在所述第2方向上与所述第2导电层并排,相比所述第2导电层距所述第1导电层较远,连接于所述第4半导体层;且
所述第4半导体层是将所述第3方向作为长度方向。
3.根据权利要求1所述的半导体装置,其具备:
第5半导体层,连接于所述第3半导体层在所述第3方向上的端部,将所述第2方向作为长度方向;及
第4导电层,连接于所述第2导电层在所述第3方向上的端部,将所述第2方向作为长度方向。
4.根据权利要求1所述的半导体装置,其
具备连接着键合线的焊垫电极,且
所述第1半导体层、所述第2半导体层及所述第3半导体层分别具备设置在从所述第1方向观察时与所述焊垫电极重叠的位置的部分、及设置在从所述第1方向观察时不与所述焊垫电极重叠的位置的部分。
5.根据权利要求4所述的半导体装置,其
具备连接于所述第1导电层及所述第2导电层的多个第1接触电极,且
所述多个第1接触电极设置在从所述第1方向观察时不与所述焊垫电极重叠的位置。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的半导体装置,其中
所述半导体衬底的与所述第1半导体层对向的区域设置着包含N型杂质的N阱。
7.根据权利要求6所述的半导体装置,其
具备连接着键合线的焊垫电极,且
具备连接于所述N阱的第2接触电极,
所述第2接触电极设置在从所述第1方向观察时与所述焊垫电极重叠的位置。
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