[发明专利]显示屏、显示屏检测系统及显示屏检测方法有效
申请号: | 202010915096.X | 申请日: | 2020-09-03 |
公开(公告)号: | CN111883575B | 公开(公告)日: | 2022-08-16 |
发明(设计)人: | 刘孟柯;李金柱 | 申请(专利权)人: | 云谷(固安)科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;G01M11/02 |
代理公司: | 成都极刻智慧知识产权代理事务所(普通合伙) 51310 | 代理人: | 张红平 |
地址: | 065500 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示屏 检测 系统 方法 | ||
本申请实施例提供的显示屏、显示屏检测系统及显示屏检测方法,涉及显示屏技术领域。在显示屏的面板焊盘区增加两个分别与测试组件区的阳极和阴极电连接的独立焊盘。在对显示屏进行像素蒸镀区位置精度检测时,只需获取白光照射下测试组件区的图像以及通过新增独立焊盘输入的电信号点亮测试组件区的图像即可,不需要额外配置紫外光光源,降低生产成本。同时,由于面板焊盘区还包括用于点亮有效发光区的独立焊盘,在将金属针脚与对应的独立焊盘接触时,可以将测试组件区与有效发光区同时点亮,可以减少检测站点,提高显示屏的生产效率。减少一个检测站点还可以节省该站点所需用于提供惰性气体的设备,进一步降低显示屏的制造成本。
技术领域
本申请涉及显示技术领域,具体而言,涉及一种显示屏、显示屏检测系统及显示屏检测方法。
背景技术
在显示屏(比如,OLED(OrganicLight-Emitting Diode)显示屏)的制造过程中,显示屏彩斑和边缘显示亮度不均(mura)等问题是显示屏的主要不良表现,准确并快速的检测出彩斑和边缘显示亮度不均等问题是提高显示屏制造良率的关键。而彩斑和边缘显示亮度不均等问题与显示屏中像素位置精度(Pixel Position Accuracy,PPA)有关,像素蒸镀区位置偏位越小(位置精度越高)越不容易出现彩斑和边缘显示亮度不均等问题。因此,如何对显示屏中像素蒸镀区位置精度进行检测是本领域技术人员急需解决的技术问题。
需要说明的是,公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在加深对本申请的总体背景技术的理解,而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。
发明内容
为了克服上述技术背景中所提及的技术问题,本申请实施例提供一种可以实现像素蒸镀区位置精度检测的显示屏、显示屏检测系统及显示屏检测方法。
本申请的第一方面,提供一种显示屏(100),所述显示屏(100)包括面板焊盘区(120)、及用于检测像素蒸镀区位置精度的测试组件区(110);
所述测试组件区(110)包括阳极(111)、发光层(112)及阴极(113),所述发光层(112)位于所述阳极(111)和所述阴极(113)之间,所述发光层(112)包括第一像素蒸镀区(1121),所述阳极(111)朝向所述阴极(113)的一侧设置有测试组件图案(1111),所述测试组件图案(1111)包括用于校准所述第一像素蒸镀区(1121)位置的标准测试组件(1111a);
所述面板焊盘区(120)包括两个分别与所述阳极(111)及所述阴极(113)电连接的独立焊盘。
在本申请的一种可能实施例中,所述测试组件区110还包括补偿层(114),所述补偿层(114)位于所述阳极(111)和所述阴极(113)之间,所述补偿层(114)包括第二像素蒸镀区(1141),所述发光层(112)与所述补偿层(114)不重叠,所述测试组件图案(1111)中的标准测试组件(1111a)还用于校准所述第二像素蒸镀区(1141)的位置。
在本申请的一种可能实施例中,所述阳极(111)和所述阴极(113)分别从所述发光层(112)及所述补偿层(114)的两侧,将所述发光层(112)及所述补偿层(114)完全覆盖。
在本申请的一种可能实施例中,所述第一像素蒸镀区(1121)与第二像素蒸镀区(1141)呈矩形分布,任意相邻的两个像素蒸镀区之间分布有所述标准测试组件(1111a)。
在本申请的一种可能实施例中,所述测试组件图案(1111)还包括校准标记(1111b),所述校准标记(1111b)位于所述测试组件图案(1111)的中心。
在本申请的一种可能实施例中,所述测试组件区(110)还包括第一辅助层(115)及第二辅助层(116),所述第一辅助层(115)设置在所述阳极(111)朝向所述阴极(113)的一侧,所述第二辅助层(116)设置在所述阴极(113)朝向所述阳极(111)的一侧;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的