[发明专利]一种有机硅含铜触体连续净化装置及工艺

权利要求书

1.一种有机硅含铜触体连续净化装置，其特征在于，包括反应槽、反应槽出口有第一循环泵，第一循环泵后的管线分为两路，使初步过滤单元和二次过滤单元并联；

所述反应槽将有机硅含铜触体中的固体铜氧化成离子态；

所述初步过滤单元包括与第一循环泵依次连接的第二循环泵、滤液槽；所述第二循环泵及滤液槽呈循环管路连接，所述滤液槽中的液体通入反应槽；

所述二次过滤单元包括依次连接的第一固液分离装置、洗涤搅拌池、第三循环泵和第二固液分离装置；第二固液分离装置有硅渣出口。

2.如权利要求1所述的有机硅含铜触体连续净化装置，其特征在于，所述反应槽中包括搅拌装置，

或，所述反应槽靠近出口处包括酸碱在线监测装置，

或，所述反应槽靠近出口处包括温度在线监测装置，

或，所述反应槽包括尾气处理装置。

3.如权利要求1所述的有机硅含铜触体连续净化装置，其特征在于，

所述滤液槽中的液体经第二循环泵通入反应槽。

4.如权利要求1所述的有机硅含铜触体连续净化装置，其特征在于，

所述洗涤搅拌池中包括搅拌装置，

或，所述洗涤搅拌池包括水入口，

或，所述第一固液分离装置包括压滤硅渣出口，所述压滤硅渣外排，

或，所述洗涤搅拌池与第三循环泵之间还有虹吸储罐，

或，所述洗涤搅拌池与第三循环泵之间呈循环管路连接。

5.如权利要求1所述的有机硅含铜触体连续净化装置，其特征在于，所述第一固液分离装置的液相出口连接滤液槽；

或，所述第二固液分离装置的液相出口包括硅监测装置，液相出口处有三路管线，分别为通入反应槽的管线、通入洗涤搅拌池的管线和外排管线。

6.一种有机硅含铜触体连续净化工艺，其特征在于，在权利要求1-5任一项有机硅含铜触体连续净化装置中进行，包括如下步骤：

将包含有机硅含铜触体的溶液通入反应槽，在反应槽中，固体铜反应为铜离子，溶液经第一循环泵后被分成两路，先开启第三循环泵，待第三循环泵压力稳定后，再开启第二循环泵，溶液分别进入初步过滤单元和二次过滤单元；

在初步过滤单元中，经滤液槽过滤的液体进入反应槽重新反应，固体硅被滞留在滤液槽中，

在二次过滤单元中，固体硅被第一固液分离装置分离，液体进入洗涤搅拌池中搅拌，经第三循环泵进入第二固液分离装置，第二固液分离装置中再次分离得到固体硅，溶液经检测，若铜离子含量低，则进入反应槽中继续反应，若固体硅出量少，溶液中铜离子含量高，则返回洗涤搅拌池中继续搅拌，若固体硅出量大，溶液中铜离子含量高，则外排至提铜装置。

7.如权利要求6所述的有机硅含铜触体连续净化工艺，其特征在于，所述反应槽中温度为30-60℃，反应时间为3-10小时。

8.如权利要求6所述的有机硅含铜触体连续净化工艺，其特征在于，

反应槽中用盐酸控制pH为2-5。

9.如权利要求6所述的有机硅含铜触体连续净化工艺，其特征在于，反应槽中添加氧化剂进行氧化失活反应。

10.如权利要求9所述的有机硅含铜触体连续净化工艺，其特征在于，所述氧化剂为双氧水、硝酸或臭氧。

11.如权利要求6所述的有机硅含铜触体连续净化工艺，其特征在于，在洗涤搅拌池中通入水，若在第二固液分离装置中检测固体硅出量大，直接将溶液外排至环境。

12.如权利要求 11所述的有机硅含铜触体连续净化工艺，其特征在于，在洗涤搅拌池中，要求洗涤后渣为中性，处理细硅粉检测金属浸出毒性在100mg/m³以内。