[发明专利]一种有机硅含铜触体连续净化装置及工艺有效

专利信息
申请号: 202010922086.9 申请日: 2020-09-04
公开(公告)号: CN112210669B 公开(公告)日: 2022-03-04
发明(设计)人: 赵炳泉;王长明;窦冰之;李吉峰;刘振涛;杨本超 申请(专利权)人: 鲁西化工集团股份有限公司硅化工分公司
主分类号: C22B7/00 分类号: C22B7/00;C22B15/00;B01D35/00;C01B33/037
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 王志坤
地址: 252200 山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 有机硅 含铜触体 连续 净化 装置 工艺
【说明书】:

本公开涉及有机硅含铜触体净化领域,具体提供一种有机硅含铜触体连续净化装置及工艺。包括反应槽、反应槽出口有第一循环泵,第一循环泵后的管线分为两路,使初步过滤单元和二次过滤单元并联;所述反应槽将有机硅含铜触体中的固体铜氧化成离子态;所述初步过滤单元包括与第一循环泵依次连接的第二循环泵、滤液槽;所述第二循环泵及滤液槽呈循环管路连接,所述滤液槽中的液体通入反应槽;所述二次过滤单元包括依次连接的第一固液分离装置、洗涤搅拌池、第三循环泵和第二固液分离装置;第二固液分离装置有硅渣出口。解决现有技术中有机硅含铜触体回收净化过程中,为使铜充分反应生成铜离子,通常反应停工后进行下一步,无法满足连续生产的问题。

技术领域

本公开涉及有机硅含铜触体净化领域,具体提供一种有机硅含铜触体连续净化装置及工艺。

背景技术

这里的陈述仅提供与本公开有关的背景信息,而不必然构成现有技术。

有机硅行业生产过程中使用原料硅粉和一氯甲烷,在铜系催化剂作用下,控制一定温度,在流化床反应器中反应生成甲基氯硅烷单体。流化床运行周期90-120天,随着流化床运行周期地延长,系统触体中杂质含量积累逐渐增加,杂质达到一定程度后需要周期停车,将系统含有杂质的细硅粉触体排出系统,重新进料开车。排料出来的含铜触体属于危险废物,其物料特性是极其易燃,见空气后发生自燃现象,必须进行密闭灌装储存。

通过检测分析废触体组分中含有金属铜10-15%,硅80-90%,碳5%,金属铜回收价值较高,且触体处理后可做下游产品。现有技术中一般将废触体中的铜、硅分离回收,具体的,将铜氧化成离子态,实现与硅的分离。

目前废触体的处理方法有三种:空气氧化法、氧化剂氧化法及酸化法,但发明人发现,无论是哪一种方法,均需要将铜氧化成离子态之后,然后停工并将溶液排放至下一系统,由于溶液充分反应的需要,无法进行连续生产。

发明内容

针对现有技术中有机硅含铜触体回收净化过程中,为使铜充分反应生成铜离子,通常反应停工后排放至下一系统,无法满足连续生产的需要的问题。

本公开一个或一些实施方式中,提供一种有机硅含铜触体连续净化装置,包括反应槽、反应槽出口有第一循环泵,第一循环泵后的管线分为两路,使初步过滤单元和二次过滤单元并联;

所述反应槽将有机硅含铜触体中的固体铜氧化成离子态;

所述初步过滤单元包括与第一循环泵依次连接的第二循环泵、滤液槽;所述第二循环泵及滤液槽呈循环管路连接,所述滤液槽中的液体通入反应槽;

所述二次过滤单元包括依次连接的第一固液分离装置、洗涤搅拌池、第三循环泵和第二固液分离装置;第二固液分离装置有硅渣出口。

本公开一个或一些实施方式中,提供一种有机硅含铜触体连续净化工艺,在上述有机硅含铜触体连续净化装置中进行,包括如下步骤:

将包含有机硅含铜触体的溶液通入反应槽,在反应槽中,固体铜反应为铜离子,溶液经第一循环泵后被分成两路,先开启第三循环泵,待第三循环泵压力稳定后,再开启第二循环泵,溶液分别进入初步过滤单元和二次过滤单元;

在初步过滤单元中,经滤液槽过滤的液体进入反应槽重新反应,固体硅被滞留在滤液槽中,

在二次过滤单元中,固体硅被第一固液分离器分离,液体进入搅拌池中搅拌,经第三循环泵进入第二固液分离装置,第二固液分离装置中再次分离得到固体硅,溶液经检测,若铜离子含量低,则进入反应槽中继续反应,若固体硅出量少,溶液中铜离子含量高,则返回洗涤搅拌池中继续搅拌,若固体硅出量大,溶液中铜离子含量高,则外排至提铜装置。

上述技术方案中的一个或一些技术方案具有如下优点或有益效果:

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