[发明专利]一种涂胶路径生成方法、生成装置、生成系统及计算机可读存储介质在审
申请号: | 202010923181.0 | 申请日: | 2020-09-04 |
公开(公告)号: | CN112238032A | 公开(公告)日: | 2021-01-19 |
发明(设计)人: | 古武;古跃革 | 申请(专利权)人: | 上海尧崇智能科技有限公司 |
主分类号: | B05C5/02 | 分类号: | B05C5/02;B05C11/10;H01M50/183 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201700 上海市青浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 涂胶 路径 生成 方法 装置 系统 计算机 可读 存储 介质 | ||
1.一种涂胶路径生成方法,其特征在于,包括:
获得工件的第一轮廓图形;
将第一轮廓图形与标准图形库进行比对,选出一个标准图形,记为第二轮廓图形;
根据第二轮廓图形获得第一涂胶路径;
获得工件上的特征识别点,特征识别点的数量为两个及以上;
根据特征识别点获得工件的旋转角度;以及
根据旋转角度对第一涂胶路径进行调整,生成第二涂胶路径。
2.根据权利要求1所述的一种涂胶路径生成方法,其特征在于:所述特征识别点包括一个位置特征识别点和一个角度特征识别点;
位置特征识别点用于获得基准位置,角度特征识别点用于配合位置特征识别点生成角度识别线;
生成的角度识别线与角度标准线在基准位置处进行对比,获得旋转角度。
3.根据权利要求1所述的一种涂胶路径生成方法,其特征在于:所述特征识别点包括一个位置特征识别点和两个及以上的角度特征识别点;
位置特征识别点用于获得基准位置,角度特征识别点用于配合位置特征识别点生成角度识别图形;
生成的角度识别图形与角度识别标准图形在基准位置处进行对比,获得多个第一旋转角度,对获得的第一旋转角度进行均值计算,得到旋转角度。
4.根据权利要求3所述的一种涂胶路径生成方法,其特征在于:每个特征识别点轮流作为位置特征识别点,获得多个第一旋转角度,对这些第一旋转角度进行均值计算,获得旋转角度。
5.根据权利要求4所述的一种涂胶路径生成方法,其特征在于:对于获得的第一旋转角度,判断其是否位于波动域内,对位于波动域外的第一旋转角度进行舍弃处理;
舍弃数量大于一个时,重新获得特征识别点。
6.一种涂胶路径生成装置,其特征在于,包括:
第一获取单元,用于获得工件的第一轮廓图形;
选取单元,用于将第一轮廓图形与标准图形库进行比对,选出一个标准图形,记为第二轮廓图形;
第一生成单元,用于根据第二轮廓图形获得第一涂胶路径;
第二获取单元,用于获得工件上的特征识别点,特征识别点的数量为两个及以上;
计算单元,用于根据特征识别点获得工件的旋转角度;以及
第二生成单元,用于根据旋转角度对第一涂胶路径进行调整,生成第二涂胶路径。
7.根据权利要求6所述的一种涂胶路径生成装置,其特征在于,还包括:
第一识别单元,用于获得一个特征识别点;
第二识别单元,用于获得一个或多个角度特征识别点;
标准生成单元,用于根据特征识别点和角度特征识别点生成角度识别线或者角度识别图形;以及
角度计算单元,用于角度识别线或者角度识别图形获得工件的旋转角度。
8. 根据权利要求7所述的一种涂胶路径生成装置,其特征在于,还包括:
判断单元,用于判断第一旋转角度是否位于波动域内,对位于波动域外的第一旋转角度进行舍弃处理;以及
返回单元,用于在第一旋转角度的舍弃数量大于一个时,使第二获取单元重新获得特征识别点。
9.一种涂胶路径生成系统,其特征在于,所述系统包括:
一个或多个存储器,用于存储指令;以及
一个或多个处理器,用于从所述存储器中调用并运行所述指令,执行如权利要求1至5中任意一项所述的涂胶路径生成方法。
10.一种计算机可读存储介质,其特征在于,所述计算机可读存储介质包括:
程序,当所述程序被处理器运行时,如权利要求1至5中任一项所述的涂胶路径生成方法被执行。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海尧崇智能科技有限公司,未经上海尧崇智能科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010923181.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。