[发明专利]显示面板及显示装置在审

专利信息
申请号: 202010933402.2 申请日: 2020-09-08
公开(公告)号: CN112086489A 公开(公告)日: 2020-12-15
发明(设计)人: 姚佳序;陈娥 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 吕姝娟
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 显示装置
【说明书】:

发明提供一种显示面板及显示装置。显示面板包括功能区和围绕功能区的主显示区,功能区包括发光区和位于发光区相对两侧的透光区。显示面板包括衬底基板、像素定义层及发光功能层。像素定义层包括多个像素开口和围绕所述像素开口的挡墙。位于功能区的挡墙包括填充层以及用于光线导向的增透阵列层。增透阵列层包括阵列分布于所述透光区的多个增透阵列单元,增透阵列单元为弧形。增透阵列层能够起到对像素定义层上方的环境光线的增透作用,提高了显示面板膜层的透过率,避免了出现光线分布不均的问题。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板及显示装置。

背景技术

随着科技的发展,显示面板的设计已经从具有单一显示功能的显示工具转变为如今集成触控、摄像以及感光元件为一体的人机交互工具。显示面板例如是有机发光二极管(organic light-emitting diode,OLED)面板。为了实现全面屏设计,一种研究方向是将各种感光元件(例如前置摄像头)设置在显示面板的屏下区域,使得环境光线透过屏幕膜层到达底层并被光感光元件捕捉。因此,要求位于感光元件上方的屏幕膜层对于光线具有较高的透过率,然而屏幕膜层的材料性能提升却是十分有限。

综上所述,需要提供一种新的显示面板及显示装置,来解决上述技术问题。

发明内容

本发明实施例提供一种显示面板和显示装置,以解决现有的显示面板将感光元件设置在屏下区域时,位于感光元件上方的屏幕膜层对于光线的透过率较低的技术问题。

为解决上述问题,本发明提供的技术方案如下:

本发明实施例提供一种显示面板,包括功能区和围绕所述功能区的主显示区,所述功能区包括发光区和位于所述发光区相对两侧的透光区,所述显示面板包括:

衬底基板;

设置于所述衬底基板上的像素定义层,所述像素定义层包括多个像素开口和围绕所述像素开口的挡墙,其中位于所述功能区的所述挡墙包括填充层以及用于光线导向的增透阵列层,所述增透阵列层包括阵列分布于所述透光区的多个增透阵列单元,所述增透阵列单元为弧形;以及

发光功能层,位于所述像素开口内。

根据本发明实施例提供的显示面板,所述增透阵列层设置于所述衬底基板靠近所述像素定义层的一侧,所述填充层覆盖于所述增透阵列层上,所述增透阵列单元包括向远离所述衬底基板的一侧凸出的弧形。

根据本发明实施例提供的显示面板,所述填充层的折射率小于所述增透阵列层的折射率。

根据本发明实施例提供的显示面板,所述填充层的折射率为1.3~1.4,所述增透阵列层的折射率为1.6~1.7。

根据本发明实施例提供的显示面板,所述填充层设置于所述衬底基板靠近所述像素定义层的一侧,所述填充层上设置有多个凹槽,所述增透阵列层填充于所述凹槽内以对应形成所述增透阵列单元,所述增透阵列单元包括向靠近所述衬底基板的一侧凸出的弧形。

根据本发明实施例提供的显示面板,所述填充层的折射率大于所述增透阵列层的折射率。

根据本发明实施例提供的显示面板,所述填充层的折射率为1.6~1.7,所述增透阵列层的折射率为1.3~1.4。

根据本发明实施例提供的显示面板,所述透光区和所述发光区呈阵列分布,其中位于相邻行或相邻列的所述透光区和所述发光区之间呈交错互补排列。

根据本发明实施例提供的显示面板,每一所述透光区包括多个所述增透阵列单元,所述增透阵列单元呈M*N组合排布,M为行数,N为列数,且M和/或N大于或等于2。

本发明实施例提供一种显示装置,包括上述显示面板,以及和所述透光区对应设置的感光元件,所述感光元件位于所述衬底基板远离所述像素定义层的一侧。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司,未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010933402.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top