[发明专利]功率MOS驱动电路在审

专利信息
申请号: 202010937236.3 申请日: 2020-09-08
公开(公告)号: CN114157278A 公开(公告)日: 2022-03-08
发明(设计)人: 雷晗;夏云凯 申请(专利权)人: 西安鼎芯微电子有限公司
主分类号: H03K17/687 分类号: H03K17/687
代理公司: 北京万思博知识产权代理有限公司 11694 代理人: 刘冀
地址: 710075 陕西省西安市*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 功率 mos 驱动 电路
【说明书】:

本申请公开了一种功率MOS驱动电路,包括:第二NMOS晶体管NM2、第三NMOS晶体管NM3以及设置于第二NMOS晶体管NM2和第三NMOS晶体管NM3之间的钳位电路3,其中第二NMOS晶体管NM2的源极和第三NMOS晶体管NM3的漏极相连,用于产生输出控制方波;以及钳位电路3用于限制输出控制方波的高电平。

技术领域

本申请涉及功率MOS驱动电路技术领域,特别是涉及一种功率MOS驱动电路。

背景技术

功率MOS作为电子开关器件,其具有开关速度快、导通损耗低以及制作成本低廉等特点,广泛应用于电池充电器、电源适配器等诸多电源领域。几乎所有的电源产品都离不开电子开关,而功率MOS作为当前应用最广泛的电子开关,如何在使用中匹配功率MOS的器件特性就成为了一个重要的研究方向,而这其中如何保证功率MOS的可靠性就显得极为重要。

当前的绝大部分功率MOS开关的栅极和源极的击穿电压都不会超过30V。功率MOS开关的器件特性是当栅源极电压越高,其导通电阻越小,作为开关的损耗就会越小,系统效率就会越高;反之,当栅源极电压越低,其导通电阻越大,作为开关的损耗就会越大,系统效率就会越低。在实际应用中,需要选择合适的驱动电压(一般控制在10V~20V),既保证了导通损耗过小,又不会导致功率MOS的栅源电压过高而击穿损坏。

传统功率MOS开关的驱动电路采用图2所示的结构,此结构用齐纳二极管解决了电源VCC过高时输出方波高电平的问题。但是,当VCC过低时,由于NMOS晶体管NM2导通阈值VTH的影响,输出方波高电平会比VCC低一个NM2晶体管的阈值Vth,即为VCC-Vth。

针对此问题,参考图3所示,传统功率MOS开关的驱动电路进行优化,在第二NMOS晶体管NM2晶体管上并联一个PMOS晶体管PM2。当电源VCC过低时,打开第二NMOS晶体管NM2的同时打开PM2,将输出方波高电平钳位在VCC。这个方案解决了VCC过低时的驱动电压问题,不过PMOS晶体管的电流能力大约是NMOS晶体管的1/3,所以在提供相同驱动能力的前提下,PMOS需要占据更多的面积,成本更高。

针对上述的现有技术中存在的现有的解决功率MOS驱动电路中电源VCC的电压过低时无法启动功率MOS开关的方案中,存在功率MOS驱动电路的成本变高以及功耗大的技术问题,目前尚未提出有效的解决方案。

发明内容

本公开提供了一种功率MOS驱动电路,以解决现有技术中存在的现有的解决功率MOS驱动电路中电源VCC的电压过低时无法启动功率MOS开关的方案中,存在功率MOS驱动电路的成本变高以及功耗大的技术问题。

根据本申请的一个方面,提供了一种功率MOS驱动电路,包括:第二NMOS晶体管、第三NMOS晶体管以及设置于第二NMOS晶体管和第三NMOS晶体管之间的钳位电路,其中第二NMOS晶体管的源极和第三NMOS晶体管的漏极相连,用于产生输出控制方波;以及钳位电路用于限制输出控制方波的高电平。

从而通过本申请实施例提供的一种功率MOS驱动电路,通过第二NMOS晶体管源极和第三NMOS晶体管的漏极连接,输出用于启动开关的输出控制方波。其中第二NMOS晶体管用于输出控制方波的高电平,第三NMOS晶体管用于输出控制方波的低电平。并且本发明还在第二NMOS晶体管和第三NMOS晶体管的连接处设置有钳位电路,其中钳位电路用于控制输出控制方波的高电平。达到了防止输出控制方波的高电平过高导致功率MOS开关的栅极击穿的技术效果。并且本发明通过简单的电路结构,实现了对于功率MOS栅极驱动的高低压钳位设置,高压防止功率MOS开关的栅极击穿,低压防止驱动过低导致的功率MOS开关导通损耗过大,从而达到了既节省了电路的面积和成本,又提供了足够的驱动能力的技术效果。进而解决了现有技术中存在的现有的解决功率MOS驱动电路中电源VCC的电压过低时无法启动功率MOS开关的方案中,存在功率MOS驱动电路的成本变高以及功耗大的技术问题。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安鼎芯微电子有限公司,未经西安鼎芯微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010937236.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top