[发明专利]滤波器组件及其制造方法、电子设备在审

专利信息
申请号: 202010941985.3 申请日: 2020-09-09
公开(公告)号: CN114244300A 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 庞慰;黄源清;张孟伦 申请(专利权)人: 诺思(天津)微系统有限责任公司
主分类号: H03H1/00 分类号: H03H1/00;H03H7/01;H01L27/20
代理公司: 北京金诚同达律师事务所 11651 代理人: 汤雄军
地址: 300462 天津市*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 滤波器 组件 及其 制造 方法 电子设备
【权利要求书】:

1.一种滤波器组件,包括:

基底;

多个滤波器,其设置在所述基底上,所述多个滤波器包括在水平方向上彼此相邻设置的第一滤波器和第二滤波器,第一滤波器具有多个膜层形成的第一叠置结构,第二滤波器具有多个膜层形成的第二叠置结构,

其中:

第一叠置结构中的至少两个膜层的厚度不同于第二叠置结构中的对应膜层的厚度。

2.根据权利要求1所述的组件,其中:

第一滤波器与第二滤波器之间在水平方向上的距离在5μm-200μm的范围内。

3.根据权利要求1所述的组件,其中:

第一叠置结构的多个膜层包括叠置的第一底电极、第一压电层和第一顶电极,第二叠置结构的多个膜层包括叠置的第二底电极、第二压电层和第二顶电极;

第一底电极、第一压电层和第一顶电极中至少两个膜层的厚度不同于第二底电极、第二压电层和第二顶电极中的对应膜层的厚度。

4.根据权利要求3所述的组件,其中:

第一底电极、第一压电层和第一顶电极中至少两个膜层的厚度大于第二底电极、第二压电层和第二顶电极中对应膜层的厚度的至少10%。

5.根据权利要求1所述的组件,其中:

第一叠置结构的多个膜层包括叠置的第一底电极、第一压电层和第一顶电极,以及包括第一温补层、第一质量负载层和第一钝化层中的至少一层,第二叠置结构的多个膜层包括叠置的第二底电极、第二压电层和第二顶电极,以及包括第二温补层、第二质量负载层、第二钝化层中的至少一层。

6.根据权利要求1所述的组件,其中:

所述第一滤波器的频率与所述第二滤波器的频率相差超过10%;和/或

所述第一滤波器内的谐振器的机电耦合系数与所述第二滤波器内的谐振器的机电耦合系数之间的差值不小于1%。

7.根据权利要求1所述的组件,其中:

第一滤波器的膜层与第二滤波器的对应膜层相接且两者之间存在台阶部,所述台阶部形成的角度在0-90°的范围内;或者

所述第一滤波器的膜层与第二滤波器的对应膜层均在水平方向上断开,或者所述第一滤波器的膜层与第二滤波器的对应膜层除了压电层之外均在水平方向上断开。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的组件,其中:

第一滤波器为单个RX滤波器,第二滤波器为单个TX滤波器;且

所述组件还包括一个围绕结构,所述一个围绕结构包括在水平方向上依次相接布置的封装环、划片道和密封胶,所述第一滤波器和第二滤波器同时布置在所述一个围绕结构内。

9.根据权利要求8所述的组件,其中:

所述第一滤波器的所有谐振器的相同膜层具有相同的厚度,且所述第二滤波器的所有谐振器的相同膜层具有相同的厚度。

10.一种滤波器组件的制造方法,所述滤波器组件至少包括第一滤波器和第二滤波器,所述方法包括步骤:

提供基底;

在基底上依次形成第一滤波器和第二滤波器的多个膜层,第一滤波器的多个膜层形成第一叠层结构,第二滤波器的多个膜层形成第二叠层结构,

其中:

所述方法包括步骤A:利用遮罩掩膜使得第一叠层结构的一个膜层的厚度不同于第二叠层结构的对应膜层的厚度。

11.根据权利要求10所述的方法,其中:

在形成了第一叠层结构的一个膜层以及第二叠层结构的对应膜层之后,所述方法还包括利用遮罩掩膜减薄所述对应膜层的厚度。

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