[发明专利]一种高纯气体缓存、调节以及输送柜

说明书

本发明属于化学气体的储存和控制技术领域，更具体地，涉及一种高纯气体缓存、调节以及输送柜。采用可拆卸的分隔板和管道安装板可以将气柜做的很小的情形下，很便利的对不同功能区的气体元件进行安装、检修和更换；采用保温单元和密封条的组合可以确保不同的单元区气体和温度环境保持独立、确保每个功能区的温度精细控制，另外使用的材料不会有颗粒的产生，保证了洁净度；采用高纯氮气对每个功能区保持微正压，可以避免空气中的粉尘、水汽进入柜体，给气体元件营造一个高洁净度、低湿度的环境；采用排风口，可以在检测到有泄漏时及时开启排风抽走而不用打开柜门，尽可能降低环境污染和对操作人员的伤害。

技术领域

本发明属于化学气体的储存和控制技术领域，更具体地，涉及一种高纯气体缓存、调节以及输送柜。

背景技术

在光纤预制棒制备领域或泛半导体制备领域，经常需要用到四氯化硅、四氯化锗、三氯氧磷、氧气、氦气、氟利昂、氯气等高纯气体原材料。为了工艺制备过程的精准进行，需要对这些气体过滤、调压、流量控制、阀门控制等，而流量的控制则需要气体在恒定的温度范围内。另外像四氯化硅、四氯化锗、三氯氧磷等在常温下处于液态，无论是通过载气还是直接蒸发方式，都需要对缓存罐加热保温处理。

现有的高纯气体缓存、调节、输送柜是先依据功能分隔出固定的单元，然后再每个单元内添加海绵保温材料、加热风扇等。由于每个隔间固定死，各种调压阀、过滤器、手阀、气动阀、质量流量计、缓存罐在第一次安装好之后的维护、检修、更换等操作极不便利；再者使用的上述气体元件、高纯气体都需要一个高洁净低湿度环境；另外四氯化硅、四氯化锗、三氯氧磷等若发生泄漏，与空气接触便有极强的腐蚀性或者极强的毒性，存在极大地安全隐患。

发明内容

鉴于以上技术方式方法的缺陷或者改进，本发明提供了一种高纯气体缓存、调节以及输送柜。该气柜用于给高纯气体原料提供一个洁净、低湿度、恒温、易维护、应急处理的环境。

为实现上述目的，本发明提供了一种高纯气体缓存、调节以及输送柜体结构，具体组成单元和功能如下：

外柜体，即整个柜体的外部结构，包含可开关的柜门，外柜体一般呈长方体，厚度1-2mm，用于柜体内气体元件、缓存罐的支撑和安装，起到与大气隔离的目的；

保温单元，用于柜体内不同隔间的保温，保温单元为三层结构：不锈钢板材、保温材料、不锈钢板材，优选地不锈钢板材选用不锈钢316L,厚度为0.1-0.5mm，优选地保温材料选用气凝胶材料，厚度2-10mm之间，利用其导热系数低、柔性的特点，保温单元安装在柜体内部或柜体门上；

密封条，密封条用于柜体内部相接触的保温单元的密封连接，也用于柜体门的密封，密封条选用柔软、耐腐蚀、耐酸碱的材料；

分隔板，用于将柜体内部分隔成不同的功能单元，在柜体的内部预留有安装分隔板的板槽和卡扣，方便分隔板的安装和拆卸，使用时分隔板与保温单元、密封条一起使用，确保每个功能单元的相互隔绝（包括气体不串扰、温度独立）；

管道安装板，构成不同功能区的气体管道的通道，管道安装板由两半组成，当管道安装好之后两半的组合可以完全密封，管道安装板直接安装在外柜体上；

进气调节区，用于进入柜体内高纯气体的过滤、调压、开关等；

缓存罐区，用于存放四氯化硅、四氯化锗、三氯氧磷等高纯原料罐的储存和蒸发；

工艺气体状态区，用于调节各工艺气体的阀门状态、流量等；

柜体氮气，用于对每个功能区的吹扫，使每个功能区都相对于大气压保持一定的正压，一般2-15Pa之间，使用高纯氮气确保每个功能区都维持一个高洁净、低湿度的环境；

排风口，安装在柜体内部的排风通道，通过管道与真空泵和喷淋塔链接，当柜体内部发生气体泄漏时，通过排风口迅速将有害气体抽走并处理，排风口及管道选用耐酸碱、耐腐蚀、强度高的材质；