[发明专利]湿法刻蚀控制系统、湿法刻蚀机和湿法刻蚀控制方法

权利要求书

1.一种湿法刻蚀控制系统，其特征在于，包括：液位检测单元、刻蚀剂喷射单元、清洗剂喷射单元、控制单元；

所述液位检测单元，用于检测漏液收集槽中漏液的液位；

所述刻蚀剂喷射单元，用于将刻蚀剂喷射在晶圆表面；

所述清洗剂喷射单元，用于将清洗剂喷射在晶圆表面；

所述控制单元，用于当所述液位检测单元检测的漏液的液位大于第一预设值时，控制所述刻蚀剂喷射单元停止向晶圆表面喷射刻蚀剂，并控制所述清洗剂喷射单元向晶圆表面喷射清洗剂。

2.根据权利要求1所述的湿法刻蚀控制系统，其特征在于，还包括：

用于向晶圆表面吹风的供风单元；

所述控制单元还用于：当所述清洗剂喷射单元停止喷射清洗剂时，控制所述供风单元向晶圆表面吹风。

3.根据权利要求1所述的湿法刻蚀控制系统，其特征在于，所述控制单元还用于：当所述液位检测单元检测的漏液的液位大于第二预设值时，控制湿法刻蚀机整机停机；其中，所述第二预设值大于所述第一预设值。

4.根据权利要求3所述的湿法刻蚀控制系统，其特征在于，还包括：

报警单元，用于发出报警信号；

所述控制单元还用于：当所述液位检测单元检测的漏液的液位大于第一预设值时，控制所述报警单元发出第一报警信号。

5.根据权利要求4所述的湿法刻蚀控制系统，其特征在于，所述控制单元还用于：当所述液位检测单元检测的漏液的液位大于第二预设值时，控制所述报警单元发出第二报警信号。

6.根据权利要求4所述的湿法刻蚀控制系统，其特征在于，所述报警信号为声音信号、光信号和图像信号中的一种或者多种。

7.根据权利要求1-6任一项所述的湿法刻蚀控制系统，其特征在于，还包括：

PH值检测单元，用于检测所述漏液收集槽中漏液的PH值；

所述控制单元还用于：根据所述PH值检测单元检测到的PH值，控制所述漏液收集槽中的漏液排放到相适配的废液罐。

8.一种湿法刻蚀机，其特征在于，包括如权利要求1-7任一项所述的湿法刻蚀控制系统。

9.一种湿法刻蚀控制方法，其特征在于，包括：

检测漏液收集槽中漏液的液位；

当所述漏液的液位大于第一预设值时，控制停止向晶圆喷射刻蚀剂，并控制向晶圆喷射清洗剂。

10.根据权利要求9所述的湿法刻蚀控制方法，其特征在于，还包括：

当停止向晶圆喷射清洗剂时，控制向晶圆吹风。

11.根据权利要求9所述的湿法刻蚀控制方法，其特征在于，当所述漏液的液位大于第二预设值时，控制湿法刻蚀机整机停机；其中，所述第二预设值大于所述第一预设值。

12.根据权利要求11所述的湿法刻蚀控制方法，其特征在于，还包括：

当所述漏液的液位大于第一预设值时，控制报警单元发出第一报警信号。

13.根据权利要求12所述的湿法刻蚀控制方法，其特征在于，还包括：

当所述漏液的液位大于第二预设值时，控制所述报警单元发出第二报警信号。

14.根据权利要求13所述的湿法刻蚀控制方法，其特征在于，所述第一报警信号和/或所述第二报警信号为声音信号、光信号和图像信号中的一种或者多种。

15.根据权利要求9-14任一项所述的湿法刻蚀控制方法，其特征在于，

检测所述漏液收集槽中漏液的PH值；

根据检测到的漏液的PH值，控制所述漏液收集槽中的漏液排放到相适配的废液罐。