[发明专利]显示面板及其制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 202010949187.5 申请日: 2020-09-10
公开(公告)号: CN112038382B 公开(公告)日: 2022-11-04
发明(设计)人: 包征;辛燕霞 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/52;H01L21/77
代理公司: 北京市立方律师事务所 11330 代理人: 张筱宁;宋海斌
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 及其 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示面板,其特征在于,包括:

基底,所述基底的周边区域包括层叠设置的第一金属信号线层和层间介电层;

第一围堰结构,包括第二金属信号线层、支撑层和像素定义层,所述第二金属信号线层和所述支撑层依次在所述层间介电层远离所述第一金属信号线层的一侧层叠设置;

所述像素定义层设于所述层间介电层远离所述第一金属信号线层的一侧,且所述像素定义层至少填充在所述第二金属信号线层的宽度方向的两侧,所述宽度方向为沿所述基底的显示区域向所述基底的周边区域的方向;

所述像素定义层在所述第二金属信号线层的对应区域具有过孔,使得所述第二金属信号线层远离所述层间介电层的一侧露出;所述支撑层靠近所述第二金属信号线层一侧填充所述过孔。

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第二金属信号线层包括至少一条第二金属信号线;

相邻所述第二金属信号线间隔设置;

所述像素定义层在每条所述第二金属信号线的对应区域均具有所述过孔。

3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一围堰结构包括以下至少一项:

所述第一围堰结构的宽度为45um~50um;

所述第二金属信号线的宽度为3um~5um;

所述过孔远离所述第二金属信号线一侧的宽度为3um~4um;

所述过孔靠近所述第二金属信号线一侧的宽度不大于所述过孔远离所述第二金属信号线一侧的宽度。

4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述基底还包括:

第一栅极绝缘层,设于所述第一金属信号线层远离所述层间介电层的一侧。

5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述基底还包括:

第三金属信号线层,设于所述第一栅极绝缘层远离所述第一金属信号线层的一侧;

第二栅极绝缘层,设于所述第三金属信号线层远离所述第一栅极绝缘层的一侧。

6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一围堰结构远离所述显示面板的显示区域的一侧设有第二围堰结构;

所述第二围堰结构与所述第一围堰结构位于所述基底的同一侧;

所述第二围堰结构在垂直于所述基底方向的高度大于所述第一围堰结构在垂直于所述基底方向的高度。

7.一种显示装置,其特征在于,包括:如权利要求1-6中任一项所述的显示面板。

8.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括:

在基底的周边区域依次制备形成所述基底中的第一金属信号线层和层间介电层;

在所述层间介电层远离所述第一金属信号线层的一侧制备形成第一围堰结构中的第二金属信号线层;

在所述层间介电层远离所述第一金属信号线层的一侧制备形成像素定义层,使得像素定义层至少填充在所述第二金属信号线层的宽度方向的两侧,在所述像素定义层对应所述第二金属信号线层的区域形成过孔,所述第二金属信号线层远离所述层间介电层的一侧露出;所述宽度方向为沿所述基底的显示区域向所述基底的周边区域的方向;

在所述像素定义层和所述第二金属信号线层都远离所述层间介电层的一侧制备形成支撑层,使得所述支撑层靠近所述第二金属信号线层一侧填充所述过孔。

9.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述在所述层间介电层远离所述第一金属信号线层的一侧制备形成第一围堰结构中的第二金属信号线层,包括:

在所述层间介电层远离所述第一金属信号线层一侧形成待刻蚀的第二金属层;所述第二金属层采用溅射工艺形成;

对所述第二金属层进行刻蚀,形成包括至少一条第二金属信号线的所述第二金属信号线层;相邻所述第二金属信号线间隔设置,所述第二金属信号线层采用干法刻蚀形成。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010949187.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top