[发明专利]检测超导纳米线单光子探测器件对准结果的方法、装置

权利要求书

1.一种检测超导纳米线单光子探测器件对准结果的方法，其特征在于，所述方法包括：

提供超导纳米线单光子探测器件，所述超导纳米线单光子探测器件包括探测芯片，所述探测芯片与入射光纤相对准；

获取所述探测芯片的图像，所述图像包括所述探测芯片的探测面的中心和入射到所述探测面上的所述入射光纤的光斑；

对所述图像进行处理，获取所述光斑的中心与所述探测面的中心之间的距离，以根据所述距离获取所述入射光纤与所述探测芯片的对准结果。

2.根据权利要求1所述的检测超导纳米线单光子探测器件对准结果的方法，其特征在于，获取所述探测芯片的图像的方法包括：

控制图像采集部件拍摄位于显微镜视野中的所述探测芯片，获取位于所述视野中的所述探测芯片的图像。

3.根据权利要求1所述的检测超导纳米线单光子探测器件对准结果的方法，其特征在于，获取所述对准结果的方式包括：

判断所述距离是否在预设数值范围内；根据判断结果，获取所述对准结果。

4.根据权利要求1-3中任意一项所述的检测超导纳米线单光子探测器件对准结果的方法，其特征在于，所述超导纳米线单光子探测器件包括自对准超导纳米线单光子探测器件，所述自对准超导纳米线单光子探测器件包括芯片固定件，所述芯片固定件中设有安装孔，所述探测芯片安装在所述安装孔中，所述入射光纤的光纤头插设于所述安装孔中。

5.根据权利要求4所述的检测超导纳米线单光子探测器件对准结果的方法，其特征在于，所述安装孔中还安装有插芯，所述插芯与所述探测芯片的底面相对，所述底面与所述探测面为所述探测芯片的两相对面。

6.根据权利要求5所述的检测超导纳米线单光子探测器件对准结果的方法，其特征在于，所述插芯中设有观察孔，所述探测面的中心线位于所述观察孔中，基于所述观察孔获取所述探测芯片的图像。

7.一种检测超导纳米线单光子探测器件对准结果的装置，其特征在于，所述装置包括：

图像采集部件，用于拍摄超导纳米线单光子探测器件的探测芯片的图像，所述图像包括所述探测芯片的探测面的中心和入射到所述探测面上的入射光纤的光斑；

图像处理部件，用于对所述图像进行处理，获取所述光斑的中心与所述探测面的中心之间的距离，以根据所述距离获取所述自对准超导纳米线单光子探测器件的对准结果。

8.根据权利要求7所述的检测超导纳米线单光子探测器件对准结果的装置，其特征在于，所述装置还包括显微镜，所述显微镜用于放大所述探测芯片，所述图像采集部件用于采集位于所述显微镜视野中的所述探测芯片的图像。

9.根据权利要求7或8所述的检测超导纳米线单光子探测器件对准结果的装置，其特征在于，所述超导纳米线单光子探测器件包括自对准超导纳米线单光子探测器件，所述自对准超导纳米线单光子探测器件包括芯片固定件及插芯，所述芯片固定件中设有安装孔，所述探测芯片安装在所述安装孔中，所述入射光纤的光纤头插设于所述安装孔中，所述插芯安装在所述安装孔中，且所述插芯中设有观察孔，所述探测面的中心线位于所述观察孔中，所述插芯与所述探测芯片的底面相对，所述底面与所述探测面为所述探测芯片的两相对面。

10.一种检测超导纳米线单光子探测器件对准结果的设备，其特征在于，所述设备包括：

至少一个处理器；以及

与所述处理器通信连接的存储器；其中，

所述存储器存储有可被所述处理器执行的指令，所述指令被所述处理器执行，以使所述处理器能够执行权利要求1-6中任一项所述的方法。

11.一种计算机存储介质，其上存储有计算机程序指令，其特征在于，当所述计算机程序指令被处理器执行时实现如权利要求1-6中任一项所述的方法。