[发明专利]层析柱装置及层析柱装柱方法有效

专利信息
申请号: 202010966206.5 申请日: 2020-09-15
公开(公告)号: CN112121466B 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 汤浩;刘凤阳;曲俊法;刘咔;范湘 申请(专利权)人: 湖南科众源创科技有限公司
主分类号: B01D15/22 分类号: B01D15/22
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 温春艳;李健
地址: 410205 湖南省长沙市高新*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 层析 装置 柱装柱 方法
【权利要求书】:

1.一种层析柱装置,其特征在于,包括层析柱管(10)、柱头(20)以及底板(30),所述柱头(20)密封设置于所述层析柱管(10)内且能够沿所述层析柱管(10)的轴向上下移动,所述柱头(20)设置有连通所述柱头(20)上下两侧的第一上通道(21),所述底板(30)密封盖设于所述层析柱管(10)的底端,所述底板(30)设置有分别连通所述底板(30)上下两侧的第一下通道(31)和第二下通道(32),所述底板(30)还设置有连通所述底板(30)下侧与所述第二下通道(32)的第三下通道(33),所述第二下通道(32)设置为具有与所述底板(30)上侧连通而与所述第三下通道(33)断开的第一状态以及与所述第三下通道(33)连通而与所述底板(30)上侧断开的第二状态,所述层析柱管(10)的内壁面上形成有让位结构(11),所述让位结构(11)设置为能够在所述柱头(20)移动至所述让位结构(11)处时连通所述柱头(20)的上下两侧,所述让位结构(11)由形成在所述层析柱管(10)顶端的内壁面上的向上的倒角和/或形成在所述层析柱管(10)底端的内壁面上的向下的倒角形成,所述让位结构(11)的设置可实现对所述柱头(20)外周的排气泡。

2.根据权利要求1所述的层析柱装置,其特征在于,所述层析柱装置包括泵(40),所述泵(40)设置为与所述第二下通道(32)连通。

3.根据权利要求1所述的层析柱装置,其特征在于,所述层析柱装置包括活动件,所述活动件设置于所述第二下通道(32)内并能够通过移动或转动实现所述第二下通道(32)在所述第一状态与所述第二状态之间的转变。

4.根据权利要求3所述的层析柱装置,其特征在于,

所述第二下通道(32)包括从上至下依次连通的第一段(321)、第二段(322)、第三段(323)以及第四段(324),所述第三段(323)的内径大于所述第二段(322)的内径,所述第二段(322)的内径大于所述第一段(321)的内径和所述第四段(324)的内径,所述第三下通道(33)设置为与所述第三段(323)连通;

所述活动件为同轴插设于所述第二下通道(32)内且能够沿所述第二下通道(32)的轴向移动的第二下管(35),所述第二下管(35)包括从上至下依次连接的第一管段(351)、第二管段(352)以及第三管段(353),所述第二管段(352)的外径大于所述第一管段(351)的外径,所述第一管段(351)的外径大于所述第三管段(353)的外径,所述第一管段(351)的外径与所述第二段(322)的内径适配,所述第三管段(353)的外径与所述第四段(324)的内径适配,所述第二下管(35)上设置有从所述第一管段(351)的顶面向所述第二管段(352)的底面延伸的第一连通孔(354),所述第一管段(351)的顶端设置有堵头(355),所述堵头(355)上设置有连通所述第二下管(35)的管腔与所述第二段(322)的第二连通孔(356),所述堵头(355)的外径大于所述第一段(321)的内径且小于所述第二段(322)的内径,所述堵头(355)顶端至所述第二管段(352)底端的轴向长度小于所述第二段(322)顶端至所述第三段(323)底端的轴向长度。

5.根据权利要求1-4中任意一项所述的层析柱装置,其特征在于,所述柱头(20)设置有连通所述柱头(20)上下两侧的第二上通道(22),所述第二上通道(22)的内径大于所述第一上通道(21)的内径。

6.根据权利要求5所述的层析柱装置,其特征在于,

所述柱头(20)设置有连通所述柱头(20)上侧与所述第二上通道(22)的第三上通道(23),所述第二上通道(22)设置为具有与所述柱头(20)下侧连通而与所述第三上通道(23)断开的第三状态以及与所述第三上通道(23)连通而与所述柱头(20)下侧断开的第四状态;和/或

各个所述通道均连接有控制其通断的阀门。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖南科众源创科技有限公司,未经湖南科众源创科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010966206.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top