[发明专利]泥质烃源岩分岩石类型评价方法、装置、电子设备及介质在审

专利信息
申请号: 202010969740.1 申请日: 2020-09-15
公开(公告)号: CN114428089A 公开(公告)日: 2022-05-03
发明(设计)人: 赵国伟;史政;胡烨;罗开平;杨帆;邓模 申请(专利权)人: 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司石油勘探开发研究院
主分类号: G01N23/20 分类号: G01N23/20;G01N23/207;G01N23/223
代理公司: 北京思创毕升专利事务所 11218 代理人: 孙向民;廉莉莉
地址: 100027 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 泥质烃源岩分 岩石 类型 评价 方法 装置 电子设备 介质
【权利要求书】:

1.一种泥质烃源岩分岩石类型评价方法,其特征在于,包括:

对目标烃源岩开展矿物组成测定,确定所述目标烃源岩的岩石类型;

确定不同岩石类型烃源岩的厚度评价指标;

确定不同岩石类型烃源岩有机质评价指标;

获取不同岩石类型烃源岩的评价指标平面分布特征;

通过所述评价指标平面分布特征,综合评价不同岩石类型泥质烃源岩。

2.根据权利要求1所述的泥质烃源岩分岩石类型评价方法,其中,所述矿物组成测定包括:全岩X-衍射分析、元素测井、薄片镜下观察、手持X-射线荧光光谱仪分析。

3.根据权利要求1所述的泥质烃源岩分岩石类型评价方法,其中,所述岩石类型包括硅质型烃源岩、钙质型烃源岩、粘土质烃源岩。

4.根据权利要求1所述的泥质烃源岩分岩石类型评价方法,其中,所述有机质评价指标包括:有机质丰度、有机质类型、有机质成熟度。

5.根据权利要求4所述的泥质烃源岩分岩石类型评价方法,其中,所述评价指标平面分布特征包括:不同岩石类型烃源岩的厚度平面分布、有机质丰度平面分布、有机质类型平面分布、有机质成熟度平面分布。

6.一种泥质烃源岩分岩石类型评价装置,其特征在于,包括:

测定模块,对目标烃源岩开展矿物组成测定,确定所述目标烃源岩的岩石类型;

厚度评价模块,确定不同岩石类型烃源岩的厚度评价指标;

有机质评价模块,确定不同岩石类型烃源岩有机质评价指标;

平面分布特征获取模块,获取不同岩石类型烃源岩的评价指标平面分布特征;

评价模块,通过所述评价指标平面分布特征,综合评价不同岩石类型泥质烃源岩。

7.根据权利要求6所述的泥质烃源岩分岩石类型评价装置,其中,所述岩石类型包括硅质型烃源岩、钙质型烃源岩、粘土质烃源岩。

8.根据权利要求6所述的泥质烃源岩分岩石类型评价装置,其中,所述评价指标平面分布特征包括:不同岩石类型烃源岩的厚度平面分布、有机质丰度平面分布、有机质类型平面分布、有机质成熟度平面分布。

9.一种电子设备,其特征在于,所述电子设备包括:

存储器,存储有可执行指令;

处理器,所述处理器运行所述存储器中的所述可执行指令,以实现权利要求1-5中任一项所述的泥质烃源岩分岩石类型评价方法。

10.一种计算机可读存储介质,其特征在于,该计算机可读存储介质存储有计算机程序,该计算机程序被处理器执行时实现权利要求1-5中任一项所述的泥质烃源岩分岩石类型评价方法。

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