[发明专利]一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜及制备方法

权利要求书

1.一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜，包括聚酯薄膜、以及涂覆于聚酯薄膜上的研磨浆料涂层，其特征在于，所述研磨浆料涂层按重量份数包括如下组分，磨料150-250份、聚异氰酸酯300-600份、双酚A环氧树脂80-150份、溶剂250-350份、抗静电剂1-5份、分散剂2-5份。

2.根据权利要求1所述的具有自锐性研磨涂层的抛光膜，其特征在于，所述磨料为金刚石微粉、白刚玉微粉、棕刚玉微粉、碳化硅微粉、氧化铈微粉中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的具有自锐性研磨涂层的抛光膜，其特征在于，所述磨料的中值粒径为0.1-30μm。

4.根据权利要求1所述的具有自锐性研磨涂层的抛光膜，其特征在于，所述双酚A环氧树脂的固含量为10-60%，其分子量为5000-30000。

5.根据权利要求1所述的具有自锐性研磨涂层的抛光膜，其特征在于，所述溶剂为乙酸乙酯、甲苯、丁酮中的一种或多种。

6.根据权利要求1所述的具有自锐性研磨涂层的抛光膜，其特征在于，所述抗静电剂为阳离子抗静电剂、阴离子抗静电剂和非离子抗静电剂中的一种或多种。

7.根据权利要求1所述的具有自锐性研磨涂层的抛光膜，其特征在于，所述分散剂为羟基官能羧酸酯、多元羧酸羟基铵盐、高分子量聚羧酸胺、聚乙烯醇和改性聚丙烯酸酯中的一种或多种。

8.一种根据权利要求1至7任意一项所述的具有自锐性研磨涂层的抛光膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤，

S1)称料：准确称取各组分；

S2)制备分散料：在浆料桶中依次加入磨料、双酚A环氧树脂、溶剂、抗静电剂和分散剂，高速搅拌均匀后即得分散料；

S3)制备研磨浆料：在分散料中加入聚异氰酸酯，搅拌均匀后即得研磨浆料；

S4)制备抛光膜：将研磨浆料均匀涂覆于聚酯薄膜上，经60-130℃固化后形成研磨浆料涂层即得抛光膜。

9.根据权利要求8所述的具有自锐性研磨涂层的抛光膜的制备方法，其特征在于，S3中的搅拌时间为50-150min。

10.根据权利要求8所述的具有自锐性研磨涂层的抛光膜的制备方法，其特征在于，S4中的固化时间为5-24h。