[发明专利]一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜及制备方法

说明书

本发明公开了一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜及制备方法，其中抛光膜包括聚酯薄膜、以及涂覆于聚酯薄膜上的研磨浆料涂层，研磨浆料涂层按重量份数包括如下组分，磨料150‑250份、聚异氰酸酯400‑600份、双酚A环氧树脂85‑150份、溶剂250‑350份、抗静电剂1‑5份、分散剂2‑5份，该抛光膜使用超高分子量双酚A环氧树脂和聚异氰酸酯结合的树脂，具有很高的脆性和硬度，高脆性树脂在研磨过程中会逐渐成粉状脱落，使研磨涂层具有自锐性，具有稳定的抛光速率，大大提高现有了抛光膜的使用寿命。

技术领域

本发明涉及抛光膜加工技术领域，尤其涉及一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜及制备方法。

背景技术

抛光膜是由磨料、树脂和薄膜基材组成，磨料和树脂构成研磨涂层。现有的抛光膜，研磨涂层在使用过程中只有表面一层磨料起到抛光作用，随着使用时间的延长，表面的磨料会逐渐磨钝，切削力逐渐下降，进而逐渐失去抛光作用，产品的使用寿命也就很有限。

发明内容

本发明的目的在于提供一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜及制备方法，该抛光膜使用超高分子量双酚A环氧树脂和聚异氰酸酯结合的树脂，具有很高的脆性和硬度，高脆性树脂在研磨过程中会逐渐成粉状脱落，使研磨涂层具有自锐性，具有稳定的抛光速率，大大提高现有了抛光膜的使用寿命。

为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜，包括聚酯薄膜、以及涂覆于聚酯薄膜上的研磨浆料涂层，所述研磨浆料涂层按重量份数包括如下组分，磨料150-250份、聚异氰酸酯400-600份、双酚A环氧树脂85-150份、溶剂250-350份、抗静电剂2-5份、分散剂2-5份。

作为进一步的优化，所述磨料为金刚石微粉、白刚玉微粉、棕刚玉微粉、碳化硅微粉、氧化铈微粉中的一种或多种。

作为进一步的优化，所述磨料的中值粒径为0.1-30μm。

作为进一步的优化，所述双酚A环氧树脂的固含量为10-60％，其分子量为5000-30000。

作为进一步的优化，所述溶剂为乙酸乙酯、甲苯、丁酮中的一种或多种。

作为进一步的优化，所述抗静电剂为阳离子抗静电剂、阴离子抗静电剂、非离子抗静电剂中的一种或多种，加入抗静电剂有利于防止在抛光摩擦过程中产生静电。

作为进一步的优化，所述分散剂为羟基官能羧酸酯、多元羧酸羟基铵盐、高分子量聚羧酸胺、聚乙烯醇、改性聚丙烯酸酯中的一种或多种，加入分散剂有助于使磨料均匀的分散于研磨浆料涂层中。

本发明还提供了一种具有自锐性研磨涂层的抛光膜的制备方法，包括如下步骤，

S1)称料：准确称取各组分；

S2)制备分散料：在浆料桶中依次加入磨料、双酚A环氧树脂、溶剂、抗静电剂和分散剂，高速搅拌均匀后即得分散料；

S3)制备研磨浆料：在分散料中加入聚异氰酸酯，搅拌均匀后即得研磨浆料；

S4)制备抛光膜：将研磨浆料均匀涂覆于聚酯薄膜上，经60-130℃固化后形成研磨浆料涂层即得抛光膜。

作为进一步的优化，S3中的搅拌时间为50-150min。

作为进一步的优化，S4中的固化时间为5-24h。

与现有技术相比，本发明具有以下的有益效果：