[发明专利]EPMA检测高纯铝靶材酸洗后铟元素含量及分布的分析方法有效

专利信息
申请号: 202010973484.3 申请日: 2020-09-16
公开(公告)号: CN112198184B 公开(公告)日: 2022-04-22
发明(设计)人: 张瑾;张飞;叶翔;周建波 申请(专利权)人: 宁波锦越新材料有限公司
主分类号: G01N23/2252 分类号: G01N23/2252;G01N23/2202
代理公司: 宁波知坤专利代理事务所(特殊普通合伙) 33312 代理人: 段艳艳
地址: 315000 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: epma 检测 高纯 铝靶材 酸洗 元素 含量 分布 分析 方法
【说明书】:

发明涉及一种EPMA检测高纯铝靶材酸洗后铟元素含量及分布区域的分析方法,包括以下步骤:步骤1、采用酸液对高纯铝试样进行酸洗;步骤2、酸洗后高纯铝试样进行清洗并干燥;步骤3、干燥后高纯铝试样进行镶嵌;步骤4、镶嵌后高纯铝试样进行抛光处理;步骤5、抛光后试样进行EPMA观察和检测,应用Mapping分析功能对铟元素的含量和分布进行分析。本发明的分析方法简便、快速和准确,可克服已有成分检测技术具备的缺点,检测试样重复使用率高,不受外界引入其它杂质元素的干扰;不但可以检测出需检测元素含量,同时可通过面分析(Mapping Analysis)分析元素的分布位置,能够有效指导酸洗工艺的制定和实施。

技术领域

本发明涉及高纯金属提纯技术领域,尤其是涉及一种用于EPMA检测高纯铝靶材酸洗后铟元素含量及分布区域的分析方法。

背景技术

超高纯度铝材,是指纯度≥99.999%(即5N)的纯铝材料。其主要应用于半导体器件的制作行业,少部分用作超导电缆的稳定化材料。阴极溅射是超高纯铝应用的一个主要方向,即将超高纯铝镀膜于半导体表面,起到降低电阻率、易沉积和易刻蚀等作用。溅射靶材已成为制作液晶显示、分立器件和集成电路等领域的关键材料。超高纯铝的典型特点为:1、杂质元素含量极低;2、导电性优良;3、光反射性能非常强。

EPMA(Electron Probe Micro Analyzer),即电子探针显微分析仪,是通过向样品表面照射一束细聚焦电子束,对产生的特征X射线进行分光并测量其强度,以检测微小区域的元素组成及样品表面上元素浓度分布的分析仪器。EPMA是分析材料元素含量及分布的最有效方法,其特点包括:CeB灯丝,可得到高空间分辨率的元素分布图像;52.5°X射线照射角度,可进行高灵敏度的测量;高精度设定分析位置和分析范围;波长色散型x射线分光器(WDS)分率高于能量分散型X射线分光器(EDS)。相比于扫描型电子显微镜(SEM)上配置EDS的型号,可以进行更高精度和更高灵敏度的分析。控制和分析软件,利用多年积累的分析经验,可实现从数据收集到数据分析以及生成分析报告功能,操作简便,结果直观,对分析者查找相关规律提供强有力结果支撑。

为保证检验结果的准确性、精确性及实用性,需对试样进行抛光处理,目的是去除观察表面的缺陷,以防干扰观察和分析结果。传统检验方法,如火焰原子吸收光谱分析法,虽然读取精度较高,但受点火麻烦,且原子化效率低低,造成精度和灵敏度不高,且只可分析液体样品;又如分光光度法,虽然能分析元素含量,但不能分析元素分布,同时只可单元素分析,其分析结果的准确性需要依赖灵敏的显色剂,且不同元素之间存在一定的干扰,造成最终的分析结果存在未知偏差,影响后续酸洗工艺制定;火花直读光谱法对试样尺寸要求严格,制样流程相对复杂;x射线荧光光谱法属于定性半定量的方法,测量结果准确度不高;扫描电镜+能谱分析法可检测元素的位置,但具体含量无法测得;滴定法只能进行单元素分析,分析周期长,不适用于微量元素分析,且分析数据会随操作人员的熟练程度进行波动;光电直读光谱仪由于出射狭缝固定,对分析钢种经常变化不适用,且谱线易漂移,需要定期校准,同时不能分析小尺寸和不规则样品。此外在制样过程中,会引入其它杂质,如Na和Si,采用传统方法会受影响导致分析结果准确度降低。此方法较传统检测方法优势在于:检测方法简便、快速和准确,检测试样重复使用率高,不受外界引入其它杂质元素干扰、不但可检测出需检测元素含量,同时可通过面扫描(Mapping Analysis)分析元素的分布位置,能够有效指导酸洗工艺的制定和实施。

发明内容

本发明设计了一种EPMA检测高纯铝靶材酸洗后铟元素含量及分布的分析方法,其解决的技术问题是传统方法会受影响导致分析结果准确度降低等。

为了解决上述存在的技术问题,本发明采用了以下方案:

一种EPMA检测高纯铝靶材酸洗后铟元素含量及分布区域的分析方法,包括以下步骤:步骤1、采用酸液对高纯铝试样进行酸洗;步骤2、酸洗后高纯铝试样进行清洗并干燥;步骤3、干燥后高纯铝试样进行镶嵌;步骤4、镶嵌后高纯铝试样进行抛光处理;步骤5、抛光后试样进行EPMA观察和检测,应用Mapping分析功能对铟元素的含量和分布进行分析。

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