[发明专利]分析、成像和/或处理物体区域的方法及粒子束装置

权利要求书

1.一种用于使用粒子束装置(200)对物体(114)的区域进行分析、成像和/或处理的方法，该方法包括：

-在物体(114)的区域上布置至少一个材料层(140)；

-使用第一粒子束来生成该材料层(140)的至少一个第一图像，其中，使用第一束发生器(101)来生成该第一粒子束，其中，该第一粒子束包括第一带电粒子，其中，使用第一物镜(107)将该第一粒子束聚焦在该材料层(140)上，其中，当该第一粒子束撞击在该材料层(140)上时生成第一相互作用粒子和/或第一相互作用辐射，并且其中，使用检测器(116，117，121，134，500)来检测这些第一相互作用粒子和/或该第一相互作用辐射；

-使用激光束和/或第二粒子束并且通过相对于这些部分层在移动方向(MD)上相对移动该激光束和/或该第二粒子束来烧蚀该材料层(140)的部分层，其中，使用激光装置(700)来生成该激光束，并且其中，使用第二束发生器(301)来生成该第二粒子束，其中，该第二粒子束包括第二带电粒子，其中，使用第二物镜(304)将该第二粒子束聚焦在这些部分层上，其中，这些部分层沿该移动方向(MD)布置；

-在烧蚀该材料层(140)的这些部分层时，以如下方式调整该激光束和/或该第二粒子束的相对移动：该材料层(140)的第一部分层的第一厚度与该材料层(140)的第二部分层的第二厚度相同或基本上相同；以及

-在该材料层(140)已经被部分或完全烧蚀之后，使用该第一粒子束来生成该物体(114)的区域的至少第二图像，其中，使用该第一物镜(107)将该第一粒子束聚焦在该物体(114)的区域上，其中，当该第一粒子束撞击在该物体(114)的区域上时生成第二相互作用粒子和/或第二相互作用辐射，并且其中，使用该检测器(116，117，121，134，500)来检测这些第二相互作用粒子和/或该第二相互作用辐射。

2.根据权利要求1所述的方法，进一步包括：

-使用第一气体注入单元(127)向该物体的区域提供至少一种第一气体；以及

-使用电子束诱导沉积和/或离子束诱导沉积，以将该材料层(140)布置在该物体(114)的区域上。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，使用以下至少之一来提供该材料层(140)：

(i)铂；

(ii)碳；

(iii)钨；

(iv)铜；

(v)绝缘体；

(vi)水。

4.根据前述权利要求之一所述的方法，进一步包括在该物体(114)上设置至少一个第一标记(141)，其中，该第一标记(141)用于以如下方式调整该激光束和/或该第二粒子束的相对移动的步骤：该材料层(140)的第一部分层的第一厚度与该材料层(140)的第二部分层的第二厚度相同或基本上相同。

5.根据权利要求4所述的方法，进一步包括以下特征之一：

(i)使用第二气体注入单元(127)并且使用电子束诱导沉积和/或离子束诱导沉积向该物体(114)提供至少一种第二气体，以设置该第一标记(141)；

(ii)使用该第一粒子束和/或该第二粒子束在该物体(141)上蚀刻该第一标记(141)。

6.根据前述权利要求之一所述的方法，其中，布置该材料层(140)包括提供具有第一材料的该材料层(140)的步骤，其中，该物体(114)的区域包括第二材料，并且其中，该第一材料不同于该第二材料。

7.根据前述权利要求之一所述的方法，其中，所述在该物体(114)的区域上布置该材料层(140)的步骤包括

-提供该材料层(140)的第一部分材料层，其中，该第一部分材料层包括第一部分材料，以及

-提供该材料层(140)的第二部分材料层，其中，该第二部分材料层包括第二部分材料，其中，该第一部分材料不同于该第二部分材料。