[发明专利]控制设备和方法、光刻装置、制造物品的方法和存储介质有效
申请号: | 202010984147.4 | 申请日: | 2020-09-18 |
公开(公告)号: | CN112526828B | 公开(公告)日: | 2023-10-03 |
发明(设计)人: | 西村光英;本岛顺一 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京怡丰知识产权代理有限公司 11293 | 代理人: | 迟军 |
地址: | 日本东京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 控制 设备 方法 光刻 装置 制造 物品 存储 介质 | ||
1.一种控制设备,其用于通过向控制对象赋予前馈操作量,来进行对所述控制对象的位置控制,所述控制设备包括:
被构造为用作确定单元和校正单元的至少一个处理器或电路,所述确定单元被构造为,确定用于继续使用所述前馈操作量的控制的目标时间是否超过预定时间,并且
所述校正单元被构造为,在所述确定单元确定所述目标时间超过了所述预定时间的情况下,将所述前馈操作量校正为向所述目标时间的末端衰减。
2.根据权利要求1所述的控制设备,其中,所述校正单元将所述前馈操作量校正为根据所述前馈操作量的长度而衰减。
3.根据权利要求1或2所述的控制设备,其中,根据能够继续使用所述前馈操作量的控制的上限时间来确定所述预定时间。
4.根据权利要求1所述的控制设备,其中,所述校正单元能够改变所述前馈操作量的衰减开始点、衰减率和衰减量中的至少一者。
5.根据权利要求4所述的控制设备,其中,所述校正单元通过改变应用到所述前馈操作量的衰减函数的曲率系数,来改变所述衰减率。
6.根据权利要求4所述的控制设备,其中,所述校正单元使用在对所述前馈操作量进行预定校正之后的前馈操作量,来改变所述衰减开始点、所述衰减率和所述衰减量中的至少一者,使得控制偏差在预定范围内。
7.根据权利要求1所述的控制设备,其中,通过获取当向所述控制对象赋予第一操作量时所述控制对象的输出响应的测量结果、并基于所述第一操作量与所述输出响应的测量结果之间的关系计算第二操作量,来获得所述前馈操作量。
8.根据权利要求7所述的控制设备,其中,基于当向所述控制对象赋予所述第二操作量时估计的所述输出响应,来确定所述第二操作量。
9.根据权利要求8所述的控制设备,其中,基于所述第二操作量来确定所述前馈操作量。
10.一种控制方法,其用于通过向控制对象赋予前馈操作量,来进行对所述控制对象的位置控制,所述控制方法包括:
确定步骤,确定用于继续使用所述前馈操作量的控制的目标时间是否超过预定时间;以及
校正步骤,在所述确定步骤确定所述目标时间超过了所述预定时间的情况下,将所述前馈操作量校正为向所述目标时间的末端衰减。
11.一种光刻装置,其用于通过向具有基板的载台或具有掩模的载台赋予前馈操作量,来进行对载台的位置控制,所述光刻装置包括:
被构造为用作确定单元和校正单元的至少一个处理器或电路,所述确定单元被构造为,确定用于继续使用所述前馈操作量的控制的目标时间是否超过预定时间,并且
所述校正单元被构造为,在所述确定单元确定所述目标时间超过了所述预定时间的情况下,将所述前馈操作量校正为向所述目标时间的末端衰减。
12.根据权利要求11所述的光刻装置,其中,基于曝光量和对准设置中的至少一者来确定所述目标时间。
13.一种制造物品的方法,所述方法包括:
使用光刻装置在基板上形成掩模的图案的处理,所述光刻装置用于通过向具有基板的载台或具有掩模的载台赋予前馈操作量,来进行对载台的位置控制,所述光刻装置包括用作确定单元和校正单元的至少一个处理器或电路,所述确定单元被构造为,确定用于继续使用所述前馈操作量的控制的目标时间是否超过预定时间,并且所述校正单元被构造为,在所述确定单元确定所述目标时间超过了所述预定时间的情况下,将所述前馈操作量校正为向所述目标时间的末端衰减;以及
处理形成有所述图案的基板的处理,
其中,根据处理后的基板来制造物品。
14.一种非暂时性计算机可读存储介质,其存储用于通过向控制对象赋予前馈操作量来进行对所述控制对象的位置控制的计算机程序,
其中,所述计算机程序包括用于执行以下步骤的指令:
确定步骤,确定用于继续使用所述前馈操作量的控制的目标时间是否超过预定时间;以及
校正步骤,在所述确定步骤中确定所述目标时间超过了所述预定时间的情况下,将所述前馈操作量校正为向所述目标时间的末端衰减。
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