[发明专利]一种流体线射流抛光装置及其应用方法有效
申请号: | 202010989012.7 | 申请日: | 2020-09-18 |
公开(公告)号: | CN112059924B | 公开(公告)日: | 2022-01-11 |
发明(设计)人: | 王春锦;张志辉;何丽婷 | 申请(专利权)人: | 香港理工大学 |
主分类号: | B24C3/32 | 分类号: | B24C3/32;B24C7/00;B24C9/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 郭帅 |
地址: | 中国香港*** | 国省代码: | 香港;81 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 流体 射流 抛光 装置 及其 应用 方法 | ||
1.一种流体线射流抛光装置,包括高压抛光液供给系统、线射流喷嘴,所述高压抛光液供给系统与所述线射流喷嘴相连;其特征在于:所述线射流喷嘴包括连接部、入口、壳体、汇集腔以及出口;其中,所述壳体设置在所述线射流喷嘴外部,所述汇集腔设置在所述线射流喷嘴内部并由上往下逐渐收窄,所述汇集腔的上部设有所述入口,所述入口处设有与所述高压抛光液供给系统相连的连接部,所述汇集腔的下部设有所述出口;
所述出口的端部为细长的线孔,所述线孔长度与所述线孔宽度的比值为2-50;
所述高压抛光液供给系统输出的高压抛光液通过所述入口,经所述汇集腔在所述出口喷射出高压高速的流体线性射流,从而对工件表面进行抛光。
2.根据权利要求1所述的流体线射流抛光装置,其特征在于:所述线射流喷嘴出口端部的所述线孔的长度与宽度比值为20-50。
3.根据权利要求2所述的流体线射流抛光装置,其特征在于:所述线孔包括两两对称的长直边,所述长直边之间采用圆弧或者直边连接,所述线孔的宽度小于1mm。
4.根据权利要求1所述的流体线射流抛光装置,其特征在于:所述流体线性射流的水压为0.4~2MPa。
5.根据权利要求4所述的流体线射流抛光装置,其特征在于:所述流体线性射流的组成部分为抛光液,所述抛光液由抛光磨料和水混合而成,其中所述抛光磨料的质量百分比在0.5%~20%之间,颗粒尺寸在0.005μm~20μm之间。
6.根据权利要求1所述的流体线射流抛光装置,其特征在于:所述线射流喷嘴采用耐磨金属或陶瓷材料制成。
7.根据权利要求1所述的流体线射流抛光装置,其特征在于:还包括工作台,所述工作台用于放置和固定待抛光工件。
8.根据权利要求7所述的流体线射流抛光装置,其特征在于:所述流体线性射流与待抛光工件之间的角度小于等于90度。
9.根据权利要求7所述的流体线射流抛光装置,其特征在于:所述抛光液供给系统依次包括位于所述工作台下方的抛光液收集槽、进液管道、高压泵以及出液管道;其中,所述抛光液收集槽侧壁底部连接有所述进液管道,所述进液管道通向高压泵,所述高压泵的出口处连接有所述出液管道,所述出液管道与所述线射流喷嘴的入口相连。
10.根据权利要求9所述的流体线射流抛光装置,其特征在于:所述工作台与所述抛光液收集槽之间设置有积液盘,用于收集从所述工作台溢流而出的抛光液与杂质混合物,所述积液盘底部设置有朝向所述抛光液收集槽的导流管,所述导流管内安装有滤网。
11.根据权利要求1所述的流体线射流抛光装置,其特征在于:所述出口为分体结构,通过在所述汇集腔下端安装有嵌块,所述嵌块上贯穿设有细长型的线孔实现,所述嵌块采用耐磨金属或陶瓷材料制成。
12.一种应用权利要求1-11任一项 所述的流体线射流抛光装置实现的流体线射流抛光方法。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于香港理工大学,未经香港理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010989012.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。