[发明专利]一种远程等离子体输送管以及远程等离子体处理设备在审
| 申请号： | 202010991834.9 | 申请日： | 2020-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN112259432A | 公开（公告）日： | 2021-01-22 |
| 发明（设计）人： | 金暻台;白国斌;高建峰;王桂磊;崔恒玮;丁云凌 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京知迪知识产权代理有限公司 11628 | 代理人： | 王胜利 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 远程 等离子体 输送 以及 处理 设备 | ||
1.一种远程等离子体输送管，其特征在于，用于向工艺腔输送远程等离子体，所述远程等离子体输送管包括金属管，以及形成在所述金属管内壁的陶瓷结构，所述陶瓷结构用于隔离所述金属管与所述远程等离子体。
2.根据权利要求1所述的远程等离子体输送管，其特征在于，所述陶瓷结构为陶瓷涂层。
3.根据权利要求1所述的远程等离子体输送管，其特征在于，所述陶瓷结构为陶瓷管。
4.根据权利要求3所述的远程等离子体输送管，其特征在于，所述陶瓷管包括可拼接在一起的多个子陶瓷管。
5.根据权利要求3所述的远程等离子体输送管，其特征在于，所述陶瓷管的横截面为圆形、椭圆形或者多边形中的一种。
6.根据权利要求1所述的远程等离子体输送管，其特征在于，所述陶瓷结构的厚度为10μm～500μm。
7.根据权利要求1所述的远程等离子体输送管，其特征在于，所述陶瓷结构含有氮化铝、氮化钛、氮化硅、氮化钙中的一种或多种。
8.根据权利要求1～6任一项所述的远程等离子体输送管，其特征在于，所述金属管的横截面为圆形、椭圆形或者多边形中的一种。
9.根据权利要求1～6任一项所述的远程等离子体输送管，其特征在于，所述金属管为铝管、铝合金管中的一种。
10.一种远程等离子体处理设备，其特征在于，所述远程等离子体设备包括权利要求1-9任一项所述的远程等离子体输送管。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司，未经中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010991834.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
