[发明专利]带隙基准电路在审

专利信息
申请号: 202010995963.5 申请日: 2020-09-21
公开(公告)号: CN111966157A 公开(公告)日: 2020-11-20
发明(设计)人: 关宇恒;唐重林 申请(专利权)人: 牛芯半导体(深圳)有限公司
主分类号: G05F1/56 分类号: G05F1/56
代理公司: 深圳市隆天联鼎知识产权代理有限公司 44232 代理人: 刘抗美
地址: 518000 广东省深圳市福*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基准 电路
【权利要求书】:

1.一种带隙基准电路,其特征在于,包括带隙基准主体电路和连接所述带隙基准主体电路的带隙基准控制电路,

所述带隙基准主体电路包括:

第一PMOS管,所述第一PMOS管的源极连接电源;

第二PMOS管,所述第二PMOS管的源极连接所述电源,所述第二PMOS管的栅极连接所述第一PMOS管的栅极作为所述带隙基准主体电路的检测点;

所述带隙基准控制电路包括:

第三PMOS管,所述第三PMOS管的源极连接电源,所述第三PMOS管的栅极连接所述检测点;

第四PMOS管,所述第四PMOS管的源极连接所述第三PMOS管的漏极,所述第四PMOS管的栅极连接第一使能信号,若所述检测点的电压为高电平,则所述第一使能信号为低电平;

第一NMOS管,所述第一NMOS管的漏极连接所述第四PMOS管的漏极,所述第一NMOS管的栅极连接所述检测点,所述第一NMOS管的源极接地;

调节单元,所述调节单元的输入端连接所述第四PMOS管的源极,所述调节单元的输出端连接所述检测点,当所述调节单元的输入端接入低电平时,所述调节单元的输出为低电平。

2.根据权利要求1所述的带隙基准电路,其特征在于,

所述调节单元包括:

第五PMOS管,所述第五PMOS管的源极连接所述电源,所述第五PMOS管的栅极作为所述调节单元的输入端连接所述第四PMOS管的源极;

第一运算放大器,所述第一运算放大器的第一输入端连接所述第一PMOS管的漏极,所述第一运算放大器的第二输入端连接所述第二PMOS管的漏极,所述第一运算放大器的输出端连接所述检测点。

3.根据权利要求1所述的带隙基准电路,其特征在于,所述带隙基准控制电路还包括:

电路关断单元,所述电路关断单元的输入端连接所述电源,所述电路关断单元的控制端连接第二使能信号,所述电路关断单元的输出端连接所述检测点,所述第二使能信号控制所述电路关断单元的工作或关断。

4.根据权利要求3所述的带隙基准电路,其特征在于,所述电路关断单元包括:

第六PMOS管,所述第六PMOS管的源极作为所述电路关断单元的输入端连接所述电源,所述第六PMOS管的栅极作为所述电路关断单元的控制端连接所述第二使能信号,所述第四PMOS管的漏极作为所述电路关断单元的输出端连接所述检测点。

5.根据权利要求4所述的带隙基准电路,其特征在于,

若所述第二使能信号为高电平,则所述电路关断单元不影响所述带隙基准主体电路;

若所述第二使能信号为低电平,则所述电路关断单元将所述带隙基准主体电路的检测点的电压变为高电平,所述带隙基准主体电路关断。

6.根据权利要求1所述的带隙基准电路,其特征在于,所述带隙基准控制电路还包括:

限流单元,所述第一NMOS管的源极通过所述限流单元接地。

7.根据权利要求6所述的带隙基准电路,其特征在于,所述限流单元包括:

第二NMOS管,所述第二NMOS管的漏极连接所述第一NMOS管的源极,所述第二NMOS管的栅极连接所述第二NMOS管的漏极,所述第二NMOS管的源极接地。

8.根据权利要求1所述的带隙基准电路,其特征在于,所述带隙基准主体电路还包括:

第一三极管,所述第一三极管的发射极连接所述第一PMOS管的漏极,所述第一三极管的基极连接所述第一三极管的集电极并接地;

第二三极管,所述第二三极管的发射极通过第一电阻连接所述第二PMOS管的漏极,所述第二三极管的基极连接所述第二三极管的集电极并接地。

9.根据权利要求1所述的带隙基准电路,其特征在于,所述带隙基准主体电路还包括:

第七PMOS管,所述第七PMOS管的源极连接所述电源,所述第七PMOS管的栅极连接所述第一PMOS管的栅极,所述第七PMOS管的漏极作为带隙基准电路的输出端输出基准电压;

第二电阻,所述第二电阻的第一端连接所述第七PMOS管的漏极;

第三三极管,所述第三三极管的发射极连接所述第二电阻的第二端,所述第三三极管的基极连接所述第三三极管的集电极并接地。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于牛芯半导体(深圳)有限公司,未经牛芯半导体(深圳)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010995963.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top