[发明专利]一种同时自动测量FRET系统矫正参数和供受体消光系数比的方法及其应用有效

专利信息
申请号: 202011012673.0 申请日: 2020-09-24
公开(公告)号: CN112129737B 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 陈同生;孙晗;尹傲 申请(专利权)人: 华南师范大学
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64;G01N33/566;G01N33/542;G01N33/58
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 刘瑜
地址: 510631 广东省广州*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 同时 自动 测量 fret 系统 矫正 参数 受体 系数 方法 及其 应用
【权利要求书】:

1.一种同时自动测量FRET系统矫正参数和供受体消光系数比的方法,其特征在于,包括如下步骤:

(1)串扰系数测量:

将供体质粒和受体质粒分别转染细胞,然后分别进行E-FRET成像,获得三通道平均荧光强度IDD、IAA、IDA,并计算得到串扰系数a,b,c和d;

(2)测量FRET质粒单独转染细胞的FCi-N/IDDi-N比例值范围:

①将i种效率不同的FRET质粒分别单独转染细胞,待细胞贴壁后,从转染每种质粒的细胞中分别选取N个以上的细胞或区域进行E-FRET成像,分别获得转染第1种质粒的细胞或区域的三通道平均荧光强度IDD1-1、IDD1-2……IDD1-N,IAA1-1、IAA1-2……IAA1-N,IDA1-1、IDA1-2……IDA1-N,并计算受体敏化荧光强度FC1-1、FC1-2……FC1-N,再计算比值R,为R1-1=FC1-1/IDD1-1、R1-2=FC1-2/IDD1-2……R1-N=FC1-N/IDD1-N,然后根据转染第1种质粒的N个以上的细胞或区域的全部比值R,以0.01~0.1为区间间隔作统计直方图,根据结果选择峰值的半高宽度作为转染第1种质粒的细胞的比值范围R1,或在统计直方图的峰值对应的R值的基础上加减0.01~0.1作为比值范围R1,或根据最大值和最小值确定比值范围R1;再采用相同的方法,分别获得转染第2种质粒至第i种质粒的细胞的比值范围,为R2、R3……Ri;其中,i≥2且为整数;N≥20且为整数;

(3)测量混合培养多种FRET质粒单转细胞的FCi′/IDDi ′比例值:

将步骤(2)中的各种FRET质粒分别单独转染细胞,待转染的质粒表达成功后,将表达不同FRET质粒的细胞合并在同一个培养皿中培养,待细胞贴壁后选取m个以上的细胞或区域进行E-FRET成像,分别获得三通道平均荧光强度IDD1′、IDD2′……IDDm′,IAA1′、IAA2′……IAAm′以及IDA1′、IDA2′……IDAm′,并根据步骤(1)中得到的串扰系数a,b,c,d分别计算得到受体敏化荧光强度FC1′、FC2′……FCm′,再计算比值R1′=FC1′/IDD1′、R2′=FC2′/IDD2′……Rm′=FCm′/IDDm′;其中,m≥5;

(4)细胞分类:

根据步骤(3)中得到的R1′、R2′……Rm′的大小,将其对应的细胞归类到步骤(2)的细胞类型中:如R1′在R1的范围内,即R1′对应的细胞为转染第1种质粒的细胞,如R1′在R2的范围内,即R1′对应的细胞为转染第2种质粒的细胞,如R1′在Ri的范围内,即R1′对应的细胞为转染第i种质粒的细胞;以此类推,分别将R2′……Rm′进行归类;

(5)计算或拟合得到G因子、k因子和消光系数比γ:

根据步骤(4)的归类和步骤(3)中获得的数据,在i种质粒中至少选择2种以上质粒对应的细胞的平均荧光强度和受体敏化荧光强度,记为IDD1″、IDD2″……IDDi″,IAA1″、IAA2″……IAAi″,FC1″、FC2″……FCi″,对各种转染质粒的细胞或区域计算y1=FC1″/(a×IAA1″)和x1=IDD1″/(a×IAA1″),y2=FC2″/(a×IAA2″)和x2=IDD2″/(a×IAA2″)……yi=FCi″/(a×IAAi″)和xi=IDDi″/(a×IAAi″),再以此计算G因子、k因子和消光系数比γ,分为如下两种情况:

当i=2时:G=(y2-y1)/(x1-x2);k为每个细胞或区域的k因子的平均值;γ=a/(G×k);

当i2时,将以x1,x2……xi为横坐标,以y1,y2……yi为纵坐标,通过最小二乘法拟合得到一条直线,该直线斜率的绝对值为G因子,直线y轴截距的倒数为消光系数比γ,最后计算k因子,即每个细胞或区域的k因子的平均值。

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