[发明专利]一种去除水厂工艺中难以去除的药品的系统及方法在审

专利信息
申请号: 202011014033.3 申请日: 2020-09-24
公开(公告)号: CN112125452A 公开(公告)日: 2020-12-25
发明(设计)人: 张双翼;夏萍;叶辉;王铮 申请(专利权)人: 上海城市水资源开发利用国家工程中心有限公司
主分类号: C02F9/08 分类号: C02F9/08;C02F101/30;C02F101/34;C02F101/38
代理公司: 上海国智知识产权代理事务所(普通合伙) 31274 代理人: 潘建玲
地址: 200082 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 去除 水厂 工艺 难以 药品 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种去除水厂工艺中难以去除的药品的系统,其特征在于,所述系统包括DAF单元、砂滤池以及紫外双氧水设备,所述DAF单元连接砂滤池,采用常规处理工艺去除进水中的一般污染物,所述紫外双氧水设备连接于所述砂滤池后,以通过高级氧化深度处理工艺去除经所述DAF单元及砂滤池处理后的进水中的药品,得到最终处理出水。

2.如权利要求1所述的一种去除水厂工艺中难以去除的药品的系统,其特征在于:所述紫外双氧水设备包括双氧水投加装置以及UV反应器,所述双氧水投加装置用于将双氧水从加药桶中泵入经所述砂滤池进入到所述UV反应器的进水中,所述UV反应器通过投加UV,利用紫外照射双氧水产生活性大的羟基自由基,以去除水中痕量的药品污染物。

3.如权利要求2所述的一种去除水厂工艺中难以去除的药品的系统,其特征在于:所述双氧水投加装置投加双氧水,使水中双氧水的浓度达到15-20mg/L。

4.如权利要求3所述的一种去除水厂工艺中难以去除的药品的系统,其特征在于:调节进入所述UV反应器的进水流量为0.5-1.2m3/h,以确保水中痕量的药品污染物与UV/H2O2充分接触,以达到更好的去除效果。

5.如权利要求4所述的一种去除水厂工艺中难以去除的药品的系统,其特征在于:所述UV反应器中UV工艺投加的UV照射强度为500-700mJ/cm2

6.如权利要求5所述的一种去除水厂工艺中难以去除的药品的系统,其特征在于:所述系统还包括絮凝剂投加装置,所述絮凝剂投加装置设置于所述DAF单元前,通过使用蠕动泵向所述DAF单元的进水中投加絮凝剂,以利用絮凝剂絮凝进水中颗粒物。

7.如权利要求6所述的一种去除水厂工艺中难以去除的药品的系统,其特征在于:所述DAF单元前还设置静态混合器,以通过所述静态混合器使絮凝剂与进水充分混合,并保持浓度达到30-40mg/L。

8.如权利要求7所述的一种去除水厂工艺中难以去除的药品的系统,其特征在于:所述DAF单元的水力停留时间为28-36min。

9.如权利要求8所述的一种去除水厂工艺中难以去除的药品的系统,其特征在于:所述砂滤池的水力停留时间为4-8min。

10.一种去除水厂工艺中难以去除的药品的方法,包括如下步骤:

步骤S1,利用DAF单元以及连接于DAF单元的砂滤池作为常规处理工艺,以去除进水中的一般污染物;

步骤S2,设置紫外双氧水设备连接至所述砂滤池后,以通过高级氧化深度处理工艺去除经DAF单元及砂滤池处理后的进水中的药品,得到去除药品后的最终处理出水。

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