[发明专利]一种去除水厂工艺中难以去除的药品的系统及方法

说明书

本发明公开了一种去除水厂工艺中难以去除的药品的系统及方法，所述系统包括DAF单元、砂滤池以及紫外双氧水设备，所述DAF单元以及砂滤池为常规处理工艺，以去除进水中的一般污染物，所述紫外双氧水设备连接于所述砂滤池后，以通过高级氧化深度处理工艺去除经所述DAF单元及砂滤池处理后的进水中的药品，得到最终处理出水，本发明可以快速降解药品，且降解去除效率高，利用常规工艺组合深度处理工艺去除水厂工艺中难以去除的药品。

技术领域

本发明涉及水处理技术领域，特别是涉及一种利用常规工艺组合深度处理工艺去除水厂工艺中难以去除的药品的系统及方法。

背景技术

药品作为一种新型污染物，在水环境中被频繁地检测发现，比如污水处理厂出水，河流，甚至在饮用水中，目前发现的药品种类也很多，比如抗生素，激素，降血脂药，神经类药品等。这些药品虽然与其他常规污染物相比在水中的检出浓度为痕量级(ng/L或μg/L)，但是在长期接触下的有害作用依然不容忽视，特别是针对小孩和老年人。可能的不良反应包括：抗生素类药品可能导致人体产生抗药性，激素类药品则可能对人体造成内分泌系统的干扰等。因而，药品在水环境中的检出得到了越来越多广泛的关注。

现有的水处理工艺主要针对常规或有重大危害的污染物所设计，对药品这种新型污染物则欠缺考虑，尤其是有一些药品由于自身复杂的化学结构，在环境中的自降解能力差，同时用一般常规的水处理工艺又去除效果不明显，在处理后的水厂出水中仍然能检测发现。

因此，实有必要提出一种技术手段，以解决上述问题。

发明内容

为克服上述现有技术存在的不足，本发明之目的在于提供一种去除水厂工艺中难以去除的药品的系统及方法，以可以快速降解药品，且降解去除效率高。利用常规工艺组合深度处理工艺去除水厂工艺中难以去除的药品。

为达上述目的，本发明提出一种去除水厂工艺中难以去除的药品的系统，所述系统包括DAF单元、砂滤池以及紫外双氧水设备，所述DAF单元连接砂滤池采用常规处理工艺去除进水中的一般污染物，所述紫外双氧水设备连接于所述砂滤池后，以通过高级氧化深度处理工艺去除经所述DAF单元及砂滤池处理后的进水中的药品，得到最终处理出水。

优选地，所述紫外双氧水设备包括双氧水投加装置以及UV反应器，所述双氧水投加装置用于将双氧水从加药桶中泵入经所述砂滤池进入到所述UV反应器的进水中，所述UV反应器通过投加UV，利用紫外照射双氧水产生活性大的羟基自由基，以去除水中痕量的药品污染物。

优选地，所述双氧水投加装置投加双氧水，使水中双氧水的浓度达到15-20mg/L。

优选地，调节进入所述UV反应器的进水流量为0.5-1.2m³/h，以确保水中痕量的药品污染物与UV/H₂O₂充分接触，以达到更好的去除效果。

优选地，所述UV反应器中UV工艺投加的UV照射强度为500-700mJ/cm²。

优选地，所述系统还包括絮凝剂投加装置，所述絮凝剂投加装置设置于所述DAF单元前，通过使用蠕动泵向所述DAF单元的进水中投加絮凝剂，以利用絮凝剂絮凝进水中颗粒物。

优选地，所述DAF单元前还设置静态混合器，以通过所述静态混合器使絮凝剂与进水充分混合，并保持浓度达到30-40mg/L。

优选地，所述DAF单元的水力停留时间为28-36min。

优选地，所述砂滤池的水力停留时间为4-8min。

为达到上述目的，本发明提供了一种去除水厂工艺中难以去除的药品的方法，包括如下步骤：

步骤S1，利用DAF单元以及连接于DAF单元的砂滤池作为常规处理工艺，以去除进水中的一般污染物；