[发明专利]蚀刻痕的优化方法及导电膜有效
| 申请号： | 202011016910.0 | 申请日： | 2020-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN112309634B | 公开（公告）日： | 2022-03-18 |
| 发明（设计）人： | 孟祥浩 | 申请（专利权）人： | 苏州思尔维纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | H01B13/00 | 分类号： | H01B13/00;H01B5/14;G06F3/041;C23C8/00 |
| 代理公司： | 苏州衡创知识产权代理事务所(普通合伙) 32329 | 代理人： | 王睿 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市相城*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蚀刻 优化 方法 导电 | ||
【权利要求书】：
1.一种蚀刻痕的优化方法，其特征在于，包括：
获取待优化的导电膜，其中，所述导电膜包括内层导电银丝和外层银杂质；
分别确定所述内层导电银丝和外层银杂质对应的第一吸收光谱和第二吸收光谱，其中，所述第一吸收光谱内的任一第一波长小于所述第二吸收光谱内的任一第二波长；
使用所述第二波长的激光辐射所述导电膜，使得所述导电膜的外层银杂质钝化，以使得所述导电膜的雾度降低，进而优化所述导电膜的蚀刻痕显示效果。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一吸收光谱包括：260纳米至280纳米；
所述第二吸收光谱包括：480纳米至600纳米。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，第二波长为550纳米。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，激光辐射的功率为0.1瓦特至10瓦特，激光辐射的时长为1秒至1000秒。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，激光辐射的功率为2瓦特，激光辐射的时长为60秒。
6.一种导电膜，其特征在于，采用权利要求1至5中任一项所述的蚀刻痕的优化方法处理得到。
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