[发明专利]判断装置在审
申请号: | 202011023439.8 | 申请日: | 2020-09-25 |
公开(公告)号: | CN112558435A | 公开(公告)日: | 2021-03-26 |
发明(设计)人: | 增田充宏 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G01B11/00;G06N20/00 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 程晨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 判断 装置 | ||
1.一种判断装置,其特征在于,
针对在基板处理装置中摄像的基板上的标志的图像数据,使用通过机器学习取得的学习模型,进行与对准失败要因有关的分类,根据该分类的结果,判断是否需要维护所述基板处理装置。
2.根据权利要求1所述的判断装置,其特征在于,
所述判断装置针对将包括与所述图像数据关联的信息的关联数据附加到所述图像数据而取得的对准数据,进行所述分类。
3.根据权利要求1所述的判断装置,其特征在于,
所述判断装置通过在多个所述基板处理装置之间比较所述分类,进行所述分类。
4.根据权利要求3所述的判断装置,其特征在于,
所述判断装置通过所述比较,判断所述对准失败要因是否由来于所述基板处理装置。
5.根据权利要求4所述的判断装置,其特征在于,
所述判断装置通过比较针对在各基板处理装置中取得的同一数量的所述图像数据的所述分类,判断所述对准失败要因是否由来于所述基板处理装置。
6.根据权利要求4所述的判断装置,其特征在于,
所述判断装置通过比较针对各基板处理装置中的同一期间内取得的所述图像数据的所述分类,判断所述对准失败要因是否由来于所述基板处理装置。
7.根据权利要求4所述的判断装置,其特征在于,
所述判断装置通过比较针对各基板处理装置中的利用同一动作条件取得的所述图像数据的所述分类,判断所述对准失败要因是否由来于所述基板处理装置。
8.根据权利要求4所述的判断装置,其特征在于,
所述判断装置在判断为所述对准失败要因由来于所述基板处理装置时,执行针对所述基板处理装置的维护处理。
9.根据权利要求8所述的判断装置,其特征在于,
所述判断装置判断在执行所述维护处理之后所述对准失败要因是否被消除,在未被消除的情况下,变更用于判断所述对准失败要因是否由来于所述基板处理装置的基准。
10.根据权利要求1所述的判断装置,其特征在于,
所述判断装置在对所述图像数据进行了分类之后,根据与分类后的该对准失败要因对应的维护方法,执行针对所述基板处理装置的维护处理。
11.根据权利要求10所述的判断装置,其特征在于,
所述判断装置判断在执行所述维护处理之后所述对准失败要因是否被消除,在未被消除的情况下,变更所述分类的基准。
12.根据权利要求1所述的判断装置,其特征在于,
所述判断装置显示所述分类的结果以及与该结果对应的维护方法的至少一方。
13.根据权利要求1所述的判断装置,其特征在于,
所述判断装置仅针对所述图像数据中的对准处理失败的图像数据进行所述分类。
14.根据权利要求1所述的判断装置,其特征在于,
所述基板处理装置是以使用曝光光将形成于原版的图案转印到所述基板上的方式对所述基板进行曝光的曝光装置。
15.一种处理基板的基板处理装置,其特征在于,具有权利要求1至14中的任意一项所述的判断装置。
16.一种物品的制造方法,其特征在于,
具有使用权利要求15所述的基板处理装置处理基板的工序,
根据处理后的所述基板制造物品。
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