[发明专利]判断装置

说明书

为了提供能够判断是否需要维护基板处理装置的判断装置，本发明所涉及的判断装置的特征在于，针对在基板处理装置中摄像的基板上的标志的图像数据，使用通过机器学习取得的学习模型，进行与对准失败要因有关的分类，根据分类的结果，判断是否需要维护基板处理装置。

技术领域

本发明涉及判断装置、基板处理装置、基板处理系统以及物品的制造方法。

背景技术

近年来，伴随电子设备的小型化、需求的扩大，需要同时改善以存储器、MPU为代表的半导体元件的微细化和生产量。

因此，在半导体元件的制造中使用的处理基板的基板处理装置中，使基板的位置对齐的对准也需要高精度化。

在基板的对准中，大量使用通过对形成于基板上的标志的图像进行摄像，并针对得到的图像数据进行图案匹配处理，求出基板的位置的手法。

日本特开2000-260699号公报公开同时抽出标志的边缘和上述边缘的方向，并针对每个边缘的方向进行关注于边缘的图案匹配处理，从而高精度地检测标志的曝光装置。

以往，在基板处理装置中基板的对准失败时，用户通过参照图像数据、与图像数据关联的关联数据，判断是否需要维护装置。

因此，根据情况来对装置的处理进行中断、或者在判断中需要时间，从而导致吞吐量降低。

因此，本发明的目的在于提供一种能够判断是否需要维护基板处理装置的判断装置。

发明内容

本发明所涉及的判断装置的特征在于，针对在基板处理装置中摄像的基板上的标志的图像数据，使用通过机器学习取得的学习模型，进行与对准失败要因有关的分类，根据分类的结果，判断是否需要维护基板处理装置。

附图说明

图1是示出第一实施方式所涉及的基板处理系统的结构的框图。

图2A是示出第一实施方式所涉及的基板处理系统具备的曝光装置的结构的框图。

图2B是示出第一实施方式所涉及的基板处理系统具备的曝光装置中设置的基板对准光学系统的结构的示意图。

图3A是示出第一实施方式所涉及的基板处理系统具备的用于判断在曝光装置中是否需要维护的结构的框图。

图3B是示出第一实施方式所涉及的基板处理系统具备的判断在曝光装置中是否需要维护的处理的流程图。

图4是例示性地示出第一实施方式所涉及的基板处理系统中的显示装置中显示的画面的图。

图5是例示性地示出第一实施方式所涉及的基板处理系统中的学习数据的制作画面的图。

图6是示出第一实施方式所涉及的基板处理系统中的制作学习数据的处理的流程图。

图7是例示性地示出第一实施方式所涉及的基板处理系统中的使学习数据的制作画面显示的按钮的图。

图8A是示出第二实施方式所涉及的基板处理系统具备的用于判断在曝光装置中是否需要维护的结构的框图。

图8B是示出第二实施方式所涉及的基板处理系统具备的判断在曝光装置中是否需要维护的处理的流程图。

具体实施方式

以下，参照附图，详细说明本实施方式所涉及的判断装置。此外，以下所示的实施方式仅表示实施的具体例，本实施方式不限定于以下的实施方式。

另外，在以下所示的实施方式中说明的特征的全部组合并非为了解决本实施方式的课题而必需。

另外，在以下所示的附图中，为了能够容易地理解本实施方式，有时以与实际不同的缩尺描绘。

[第一实施方式]