[发明专利]操作沉积设备的方法和沉积设备

权利要求书

1.一种在基板上沉积蒸发的源材料的方法，包括：

导引来自蒸发源(20)的一个或多个出口(22)的所述蒸发的源材料通过所述蒸发源的屏蔽装置(30)朝向所述基板(10)，所述蒸发源的所述屏蔽装置布置于所述一个或多个出口(22)和所述基板(10)之间；和

通过用红外辐射至少局部地加热所述屏蔽装置(30)而清洁所述屏蔽装置(30)，以用于从所述屏蔽装置(30)释放附接的源材料。

2.如权利要求1所述的方法，其中清洁包括相对于材料收集单元(40)从沉积位置(I)移动所述蒸发源(20)至维修位置(II)，在所述维修位置(II)中所述屏蔽装置(30)面向所述材料收集单元(40)，其中在所述维修位置(II)中加热所述屏蔽装置。

3.如权利要求2所述的方法，其中移动所述蒸发源(20)至所述维修位置(II)包括移动所述蒸发源(20)，使得所述出口的方向移动至少20°的角度(α)。

4.如权利要求2所述的方法，其中移动所述蒸发源(20)至所述维修位置(II)包括移动所述蒸发源(20)，使得所述出口的方向移动从60°至120°的角度。

5.如权利要求1所述的方法，其中所述一个或多个出口是喷嘴的喷嘴出口，并且所述喷嘴不与所述屏蔽装置直接接触，以减少来自所述喷嘴而朝向所述屏蔽装置的热流。

6.如权利要求5所述的方法，其中所述喷嘴出口突出至所述屏蔽装置中。

7.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其中所述屏蔽装置在被清洁之后进行冷却。

8.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其中所述加热包括导引所述红外辐射至所述附接的源材料上，以用于从所述屏蔽装置(30)释放所述附接的源材料。

9.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其中所述屏蔽装置(30)被构造为塑形屏蔽物，所述塑形屏蔽物塑形从所述一个或多个出口射出的蒸发的源材料的一个或多个羽流。

10.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其中所述蒸发源具有多个出口(22)，并且所述屏蔽装置(30)包括多个孔(32)，所述多个孔(32)与所述多个出口(22)相关。

11.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其中所述屏蔽装置(30)阻挡相对于来自所述一个或多个出口(22)的所述蒸发的源材料的主发射方向(X)具有大于45°的发射角的蒸发的源材料。

12.一种在基板上沉积蒸发的源材料的方法，包括：

沿着基板(10)的表面移动蒸发源(20)；

导引来自所述蒸发源(20)的一个或多个出口(22)的所述蒸发的源材料朝向所述基板，其中部分的所述蒸发的源材料由所述蒸发源(20)的屏蔽装置(30)阻挡并且附接于所述蒸发源的所述屏蔽装置，所述蒸发源的所述屏蔽装置布置于所述一个或多个出口(22)和所述基板(10)之间；

移动所述蒸发源，使得所述出口的方向从沉积位置(I)至维修位置(II)移动第一移动角度；

通过用红外辐射至少局部地加热在所述维修位置(II)中的所述屏蔽装置(30)来清洁所述屏蔽装置(30)；

移动所述沉积源(20)，使得所述出口的方向移动第二移动角度回到所述沉积位置(I)或至另一沉积位置；

沿着所述基板(10)或另一基板的表面移动所述蒸发源(20)；和

导引来自所述一个或多个出口(22)的所述蒸发的源材料朝向基板。