[发明专利]可翻转承载装置

说明书

本发明涉及超高真空成膜设备技术领域，具体为一种可翻转承载装置，该装置包括行星基片架、旋转机构和翻转机构，旋转机构设置在行星基片架上表面，旋转机构的垂直转轴设置于行星基片架中央，垂直转轴上端与伺服电机的转子联动，转子与垂直转轴间设置有电磁离合器；垂直转轴下端与扇形旋转架的圆心角处连接；扇形旋转架弧面上设置轮齿；翻转机构设置在行星基片架开孔处，翻转机构的固定夹为环形，固定夹上设置用于锁定基片的夹具；固定夹两侧设置翻转转轴，行星基片架开孔处设置对应的轴承，一侧翻转转轴上设置翻转齿轮，所述翻转齿轮与扇形旋转架啮合。该装置机械结构简单，后期便于维护，可以得到广泛的应用。

技术领域

本发明涉及超高真空成膜设备技术领域，具体为一种可翻转承载装置。

背景技术

随着光学技术、材料学技术和电学技术等领域的发展，新型显示器的技术不断成熟，使得显示器行业有了长足的进步，特别是相较于传统显示器，新型显示器有着更为优异的性能，这些都使得新型显示器朝着更高分辨率、更长的使用寿命、更稳定的图像显示等方面发展。

在新型显示器镀膜过程中，由于现阶段的超高真空成膜设备中的基片架都采用传统行星结构，基片在整个镀膜过程中都保持空间位置的相对固定，这种传统的基片架结构简单、操作方便、成本低廉且较为可靠，但时难以实现只抽取一次真空得到多组不同工艺要求的产品。因此，如何在生产中节约时间成本、提高产品产量，是目前超高真空成膜设备亟需解决的问题。

发明内容

本发明针对现有技术的不足，提供一种用于超高真空成膜设备上的可翻转承载装置，可以实现单次抽取真空后就能镀制多种工艺要求的产品。

可翻转承载装置，设置于超高真空成膜设备内，该装置包括行星基片架，其特征在于该装置还包括旋转机构和翻转机构，其中：

旋转机构设置在行星基片架上表面，旋转机构包括垂直转轴、伺服电机、电磁离合器以及扇形旋转架，垂直转轴设置于行星基片架中央，垂直转轴上端与伺服电机的转子联动，转子与垂直转轴间设置有电磁离合器；垂直转轴下端与扇形旋转架的圆心角处连接；扇形旋转架弧面上设置轮齿；

翻转机构设置在行星基片架开孔处，翻转机构包括固定夹、翻转转轴和齿轮；固定夹为环形，固定夹上设置用于锁定基片的夹具；固定夹两侧设置翻转转轴，所述行星基片架开孔处设置对应的轴承，一侧翻转转轴上设置翻转齿轮，所述翻转齿轮与扇形旋转架啮合。

具体的，行星基片架上方设置有定位轴承，所述定位轴承与超高真空成膜设备固定连接，所述垂直转轴穿过定位轴承用于限位。

具体的，扇形旋转架悬浮于行星基片架上方，扇形旋转架底部设置滚轮，使扇形旋转架平稳的沿行星基片架中央旋转。

具体的，所述固定夹内环直径大于待镀膜基片的直径。进一步的，所述夹具不少于两组，夹具沿固定夹等距布置；所述夹具采用弹簧压片及扭簧夹的组合。弹簧压片将基片紧压在固定夹上，扭簧夹夹持在基片边缘使基片始终保持在固定夹中央。

需要镀膜的基片放置在基片架于真空镀膜设备中，抽取真空，等待真空度达到工艺要求。确定基片的方向是否是待镀面朝下，转动指定基片时，电磁离合器管壁，扇形旋转架下沉，与基片翻转装置边缘处的锥齿轮啮合，伺服电机控制扇形旋转架转动，使该基片恰好旋转180°；同理，每个独立的基片都可通过上述步骤进行转动，需要镀制的基片朝下，待镀制的基片旋转朝上，镀制完成后再将镀好的基片旋转朝上，将未镀制的基片再次旋转朝下，即可进行后续生产或工艺试验。扇形旋转架调整好每个基片的位置后，位于行星基片架上方的电磁离合器打开，扇形旋转架向上移动，与基片翻转装置分离。待所有工艺完毕后，为保证成膜质量，恢复所有基片的方向使工艺面朝下，待真空镀膜设备冷却后，即可打开充气阀门，使设备恢复大气压后取出完成镀膜的基片。