[发明专利]一种用蚀刻技术去除多层板PTH孔孔环的方法在审

专利信息
申请号: 202011039538.5 申请日: 2020-09-28
公开(公告)号: CN112165794A 公开(公告)日: 2021-01-01
发明(设计)人: 王童星 申请(专利权)人: 高德(苏州)电子有限公司
主分类号: H05K3/42 分类号: H05K3/42;H05K3/00;H05K3/06
代理公司: 广州市红荔专利代理有限公司 44214 代理人: 薛胜男
地址: 215021 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 蚀刻 技术 去除 多层 pth 孔孔环 方法
【权利要求书】:

1.一种用蚀刻技术去除多层板PTH孔孔环的方法,所述多层板由下到上依次包括信号层以及多层导电层;其特征在于,包括如下步骤:

S1、下料、镀铜箔:在所述信号层的外表面镀铜箔,形成外铜箔层;

S2、钻孔,在多层板上形成通孔,所述通孔贯穿多层所述导电层、信号层以及外铜箔层;

S3、电镀:在S2得到的通孔内镀铜,得到PTH孔,所述PTH孔贯穿多层所述导电层以及信号层;

S4、对所述PTH孔进行树脂塞孔、研磨;

S5、贴干膜、曝光、显影、蚀刻:蚀刻时去除所述外铜箔层;

S6、油墨印刷,印刷油墨时在背钻孔的一面油墨用43T网版,印刷、曝光、显影4次;

S7、成型、表面处理、终检等完成线路板的制作。

2.根据权利要求1所述的一种用蚀刻技术去除多层板PTH孔孔环的方法,其特征在于,步骤S3中,所述PTH孔内的铜厚度不小于25μm。

3.根据权利要求1所述的一种用蚀刻技术去除多层板PTH孔孔环的方法,其特征在于,步骤S4中,采用真空塞孔机进行树脂塞孔,保证一刀塞孔。

4.根据权利要求1所述的一种用蚀刻技术去除多层板PTH孔孔环的方法,其特征在于,步骤S5中,蚀刻压力上压3.0kg/cm2,下压2.6kg/cm2,蚀刻次数为两次。

5.根据权利要求1所述的一种用蚀刻技术去除多层板PTH孔孔环的方法,其特征在于,步骤S6中,油墨厚度控制100μm以上。

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