[发明专利]一种镭雕方法、镭雕装置、电子设备和镭雕系统在审
申请号: | 202011040439.9 | 申请日: | 2020-09-28 |
公开(公告)号: | CN112171071A | 公开(公告)日: | 2021-01-05 |
发明(设计)人: | 黎文秀 | 申请(专利权)人: | 歌尔科技有限公司 |
主分类号: | B23K26/362 | 分类号: | B23K26/362;B23K26/70 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 郭化雨 |
地址: | 266100 山东省青岛*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 方法 装置 电子设备 系统 | ||
本申请提供一种镭雕方法、装置、电子设备和镭雕系统,该方法包括:获取距离传感器采集的基材表面与镭雕激光头的第一距离;其中,距离传感器设置在镭雕激光头上;根据第一距离和移动信息,确定控制信息;根据控制信息控制镭雕激光头发射激光束,使在激光束照射下的基材表面的激光能量为目标能量;其中,目标能量与基材对应。本申请在镭雕激光头上设置距离传感器来采集基材表面与镭雕激光头的第一距离,然后根据第一距离和移动信息确定控制信息,通过第一距离调整控制信息,并根据控制信息控制镭雕激光头发射激光束,使在激光束照射下的基材表面的激光能量为目标能量,最终实现所有基材表面的激光能量一致,实现镭雕色差的均一性,镭雕效率高。
技术领域
本申请涉及镭雕技术领域,特别涉及一种镭雕方法、镭雕装置、电子设备和镭雕系统。
背景技术
色差管控是三维镭雕过程中重点管控项目,由于基材表面有一定弧度,镭雕过程中需要根据表面弧度的变化,对应调整镭雕设备的激光功率,以补偿激光失焦导致的基材表面激光能量不足,导致不同位置镭雕产生色产差。因此镭雕功率的调整能否匹配基材表面弧度的变化,显得非常重要。
相关技术通过分字段法改善镭雕色差,即在基材表面人为的划分几个字区域,每个区域设置独立镭雕功率,然后进行镭雕实验,根据实际的镭雕结果调整每个区域的镭雕功率。此方法虽然最终可以实现镭雕色差的均一,但是过程中需要不断调整各字块的镭雕功率,甚至调整镭雕字块的数量,效率低下。
因此,如何提供一种解决上述技术问题的方案是本领域技术人员目前需要解决的问题。
发明内容
本申请的目的是提供一种镭雕方法、镭雕装置、电子设备和镭雕系统,能够提高镭雕效率。其具体方案如下:
本申请提供了一种镭雕方法,包括:
获取距离传感器采集的基材表面与镭雕激光头的第一距离;其中,所述距离传感器设置在所述镭雕激光头上;
根据所述第一距离和移动信息,确定控制信息;
根据所述控制信息控制所述镭雕激光头发射激光束,使在所述激光束照射下的所述基材表面的激光能量为目标能量;其中,所述目标能量与基材对应。
优选地,当所述移动信息为所述镭雕激光头相对于基材水平移动时,所述根据所述第一距离和移动信息,确定控制信息,包括:
将所述第一距离与预设功率信息进行匹配,得到目标功率;其中,所述预设功率信息是基材表面与镭雕激光头的距离和所述镭雕激光头的功率的对应关系信息;
将所述目标功率确定为所述控制信息;
对应的,所述根据所述控制信息控制所述镭雕激光头发射激光束,使在所述激光束照射下的所述基材表面的激光能量为目标能量,包括:
将所述镭雕激光头的功率设置为所述目标功率,控制所述镭雕激光头发射激光束,使在所述激光束照射下的所述基材表面的激光能量为所述目标能量。
优选地,所述将所述第一距离与预设功率信息进行匹配,得到目标功率,包括:
从预设功率信息集中确定所述基材对应的所述预设功率信息;
根据所述第一距离与所述预设功率信息,得到所述目标功率。
优选地,所述预设功率信息的设置过程包括:
在所述镭雕激光头相对于基材水平移动时,当所述基材表面与所述镭雕激光头之间的垂直距离为测试距离时,调节所述镭雕激光头的功率;
控制所述镭雕激光头在测试功率下发射激光束,使在所述激光束照射下的所述基材表面的激光能量为所述目标能量;
记录所述测试距离和对应的测试功率;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于歌尔科技有限公司,未经歌尔科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011040439.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种聚合口配置的下发方法及网络设备
- 下一篇:一种存储节点管理方法及相关装置