[发明专利]降低杂质1，3-二甲基脲含量的高纯度灭多威生产方法

权利要求书

1.降低杂质1，3-二甲基脲含量的高纯度灭多威生产方法，其特征在于包括：

S1.灭多威肟溶于有机溶剂，并除去体系中的水分；

S2.在一定温度下滴加异氰酸甲酯，保温反应一定时间；

S3.反应完成后，经降温结晶、过滤、干燥得到灭多威产品，过滤后含有灭多威的溶剂母液循环使用。

2.根据权利要求1所述的高纯度灭多威生产方法，其特征在于：步骤S1所述有机溶剂包括二氯丙烷、二异丙醚、乙基正丙基醚、二异丁基醚、甲酸正丙酯、甲酸正丁酯、乙酸乙酯、乙酸正丙酯、丁酸甲酯、丁酸乙酯、异丁酸甲酯、异丁酸乙酯、硝酸乙酯、硝酸正丙酯、乙酸异丙酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、丙酸正丙酯或苯中的一种或两种以上物质的混合物，有机溶剂与灭多威肟的质量比为(1～10):1。

3.根据权利要求1所述的高纯度灭多威生产方法，其特征在于：步骤S1在30～100℃条件下，通过常压切水或真空切水脱水的方式除去体系中的水分，至体系中水的质量百分比含量≤0.01％。

4.根据权利要求3所述的高纯度灭多威生产方法，其特征在于：真空切水脱水的真空度为-0.01～-0.1MPa。

5.根据权利要求1所述的高纯度灭多威生产方法，其特征在于：步骤S2中在5～45℃下滴加异氰酸甲酯，滴加时间不低于1小时，保温反应时间不低于1小时。