[发明专利]一种镀膜玻璃的钢化处理方法

权利要求书

1.一种镀膜玻璃的钢化处理方法，其特征在于，包括：提供镀膜玻璃，其中所述镀膜玻璃包括：

玻璃基片；

低辐射膜层，设置于所述玻璃基片上；以及

高辐射膜层，设置于所述低辐射膜层远离所述玻璃基片的一面；其中所述低辐射膜层的辐射率小于所述高辐射膜层的辐射率和所述玻璃基片的辐射率，所述高辐射膜层和所述玻璃基片的辐射率差值的绝对值小于所述低辐射膜层和所述玻璃基片的辐射率差值的绝对值，所述高辐射膜层的辐射率大于0.3且小于等于0.99，所述低辐射膜层的辐射率范围为0.001~0.15；

对所述镀膜玻璃进行钢化处理并在所述钢化处理过程中去除所述高辐射膜层得到钢化镀膜玻璃。

2.根据权利要求1所述的镀膜玻璃的钢化处理方法，其特征在于，所述高辐射膜层的材料包括碳、含碳的有机涂料中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的镀膜玻璃的钢化处理方法，其特征在于，所述低辐射膜层的辐射率范围为0.001~0.08。

4.根据权利要求3所述的镀膜玻璃的钢化处理方法，其特征在于，所述低辐射膜层的辐射率范围为0.001~0.03。

5.根据权利要求1所述的镀膜玻璃的钢化处理方法，其特征在于，所述高辐射膜层的厚度范围为0.01~100微米。

6.根据权利要求5所述的镀膜玻璃的钢化处理方法，其特征在于，所述高辐射膜层的厚度范围为1~50微米。

7.根据权利要求6所述的镀膜玻璃的钢化处理方法，其特征在于，所述高辐射膜层的厚度范围为5~30微米。

8.根据权利要求1所述的镀膜玻璃的钢化处理方法，其特征在于，所述低辐射膜层含有银、铝、金、铜的单质或合金作为功能层，还包括位于所述功能层与所述玻璃基片之间的介质层，及位于所述功能层与所述高辐射膜层之间的保护层，所述介质层与所述玻璃基片相邻，所述保护层与所述高辐射膜层相邻。

9.根据权利要求8所述的镀膜玻璃的钢化处理方法，其特征在于，所述低辐射膜层包括的所述功能层的层数为1~5层，其中每一层所述功能层的厚度为1~50纳米。

10.根据权利要求9所述的镀膜玻璃的钢化处理方法，其特征在于，所述低辐射膜层包括的所述功能层的层数为1~4层，其中每一层所述功能层的厚度为2~40纳米。

11.根据权利要求10所述的镀膜玻璃的钢化处理方法，其特征在于，所述低辐射膜层包括的所述功能层的层数为2~3层，其中每一层所述功能层的厚度为3~30纳米。

12.根据权利要求11所述的镀膜玻璃的钢化处理方法，其特征在于，所述低辐射膜层包括：依次形成于所述玻璃基片上的第一介质层、第一种子层、第一功能层、第一保护层、第二介质层、第二种子层、第二功能层、第二保护层、第三介质层、第三种子层、第三功能层及第三保护层，其中，所述第三保护层与所述高辐射膜层相邻，所述第一介质层与所述玻璃基片相邻。

13.根据权利要求1所述的镀膜玻璃的钢化处理方法，其特征在于，还包括：

对所述镀膜玻璃进行预处理，所述预处理包括对所述镀膜玻璃进行切割、磨边处理；

对所述镀膜玻璃进行冷却处理，所述冷却处理包括：采用多头喷嘴将高压冷空气吹向所述镀膜玻璃的两面，以使所述镀膜玻璃冷却至室温。

14.根据权利要求1所述的镀膜玻璃的钢化处理方法，其特征在于，所述钢化处理包括：

将所述镀膜玻璃通过辊道送入钢化炉中进行高温处理，所述高温处理的温度为630~720℃，时间为1~20分钟。