[发明专利]利用隧道场效应管抑制漏电的混合非易失性随机存储器有效
申请号: | 202011047144.4 | 申请日: | 2020-09-28 |
公开(公告)号: | CN112185445B | 公开(公告)日: | 2022-10-25 |
发明(设计)人: | 蔡浩;周永亮;李鑫;刘波 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | G11C11/413 | 分类号: | G11C11/413;G11C11/416 |
代理公司: | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人: | 沈廉 |
地址: | 210096 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 隧道 场效应 抑制 漏电 混合 非易失性 随机 存储器 | ||
1.一种利用隧道场效应管抑制漏电的混合非易失性随机存储器,其特征在于该随机存储器SRAM包括上电后存储数据的SRAM存储模块、断电前保存数据的磁隧道结(MTJ)写入路径、电源恢复后SRAM数据恢复路径、磁隧道结(MTJ)数据恢复路径,SRAM存储模块包含六个TFET晶体管,即两个上拉集体管、两个下拉晶体管、两个数据传输晶体管;其中:
SRAM两个上拉晶体管包括第一上拉晶体管(PT1)和第二上拉晶体管(PT2);其中第一上拉晶体管(PT1)为Ptfet类型,其源极接第一电源(VDD),漏极接第一存储节点(Q),栅极接第二存储节点(QB);第二上拉晶体管(PT2)为Ptfet类型,其源极接第二电源(Vpulse),漏极接第二存储节点(QB),栅极接第一存储节点(Q);
SRAM两个下拉晶体管包括第一下拉晶体管(NT1)和第二下拉晶体管(NT2),其中第一下拉晶体管(NT1)为Ntfet类型,其漏极接第一存储节点(Q),源极接地,栅极接第二存储节点(QB);第二下拉晶体管(NT2)为Ntfet类型,其漏极接第二存储节点(QB),源极接地,栅极接第一存储节点(Q);
SRAM两个数据传输晶体管为第一数据传输晶体管(NT3),第二数据传输晶体管(NT4);其中第一数据传输晶体管(NT3)的漏极接第一存储节点(Q),栅极接字线(WL),源极接第一位线(BL);第二数据传输晶体管(NT4)的漏极接第二存储节点(QB),栅极接字线(WL),源极接第二位线(BLB)。
2.根据权利要求1所述的利用隧道场效应管抑制漏电的混合非易失性随机存储器,其特征在于断电前保存数据的磁隧道结(MTJ)写入路径包含第一控制管(NM1)和磁隧道结(MTJ);第一控制管(NM1)漏极接第一外接使能控制信号(CTRL1),第一控制管(NM1)源极接第三存储节点(T1),栅极接第二存储节点(QB);磁隧道结(MTJ)自由层连接第三存储节点(T1),固定层连接外接复位控制信号(RSL)。
3.根据权利要求2所述的利用隧道场效应管抑制漏电的混合非易失性随机存储器,其特征在于所述磁隧道结(MTJ)的状态为高阻态,在磁隧道结(MTJ)写入操作中,外接复位控制信号(RSL)固定为高电平,第一外接使能控制信号(CTRL1)固定为低电平。
4.根据权利要求 1所述的利用隧道场效应管抑制漏电的混合非易失性随机存储器,其特征在于所述电源恢复后随机存储器SRAM数据恢复路径,即读路径包含第二控制管(NT5)和磁隧道结(MTJ);读路径的第二控制管(NT5)漏极连接SRAM的第一存储节点(Q),源极连接第三存储节点(T1)端,栅极连接第二外接使能控制信号(CTRL2)端,磁隧道结(MTJ)的自由层连接第三存储节点(T1),固定层连接外接复位控制信号(RSL)端。
5.根据权利要求1所述的利用隧道场效应管抑制漏电的混合非易失性随机存储器,其特征在于所述磁隧道结(MTJ)数据恢复路径与写路径一样,在磁隧道结(MTJ)数据恢复操作中,第二外接使能控制信号(CTRL2)端固定为低电平,第一外接使能控制信号(CTRL1)固定为高电平。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东南大学,未经东南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011047144.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。