[发明专利]一种激光干涉仪

权利要求书

1.一种激光干涉仪，其特征在于，包括激光发生器、调整装置、第一分光镜、第一角锥反射镜、第二角锥反射镜、第二分光镜、压缩透镜、接收器、检测装置；

其中，第一分光镜为偏振分光镜，所述偏振分光镜包括基层和堆叠在基层上的膜系，所述膜系的膜系结构包括第一膜堆、第二膜堆及第三膜堆，每个所述膜堆均由非四分之一波长光学厚度的高折射率膜层和低折射率膜层交替堆叠；所述第一膜堆与第三膜堆的顺序可调换；第一膜堆采用(aHbL)^m的初始结构；第二膜堆采用((aHbL)^p(cHdL)^q)^r的初始结构；第三膜堆采用(cHdL)^n；

或，第一膜堆采用(cHdL)^n的初始结构；第二膜堆采用((aHbL)^p(cHdL)^q)^r的初始结构；第三膜堆采用(aHbL)^m；

或，第一膜堆采用(aHbL)^m的初始结构；第二膜堆采用((cHdL)^q(aHbL)^p)^r的初始结构；第三膜堆采用(cHdL)^n；

或，第一膜堆采用(cHdL)^n的初始结构；第二膜堆采用((cHdL)^q(aHbL)^p)^r的初始结构；第三膜堆采用(aHbL)^m；

其中，m为aHbL的序列重复交替堆叠的组数，r为(aHbL)^p(cHdL)^q的序列重复交替堆叠的组数，p为第二膜堆中aHbL的序列重复交替堆叠的组数，q为第二膜堆中cHdL的序列重复交替堆叠的组数，n为cHdL的序列重复交替堆叠的组数；

H表示四分之一中心波长光学厚度的高折射率膜层，L表示四分之一中心波长光学厚度的低折射率膜层；a、b、c、d为四分之一中心波长光学厚度系数；

所述激光发生器发出的激光经调整装置后进入所述第一分光镜，所述第一分光镜将激光分为参考光和测量光，参考光经所述第一角锥反射镜反射后出射，测量光经第二角锥反射镜反射后出射，两束光经所述第一分光镜反射后汇合成集合光束，进入第二分光镜；集合光束经所述第二分光镜分成第一分光束和第二分光束，第一分光束经所述压缩透镜压缩后传送至所述接收器，用于位置测量，第二分光束投影到所述检测装置，用来观测参考光斑和测量光斑的重合度，根据参考光斑和测量光斑调整所述调整装置。

2.如权利要求1的激光干涉仪，其特征在于，所述四分之一中心波长光学厚度系数a和b所在的范围为0.8至0.96，a和b为相等或不相等。

3.如权利要求1的激光干涉仪，其特征在于，m、p、q、r均大于1。

4.如权利要求1的激光干涉仪，其特征在于，所述四分之一中心波长光学厚度系数c和d所在的范围为1.04至1.2，c和d为相等或不相等。

5.如权利要求1的激光干涉仪，其特征在于，所述高折射率膜层的材料为Ta2O5、Nb2O5、TiO2中的至少之一，所述高折射率膜层的折射率在1550nm的范围为1.85至2.5。

6.如权利要求1的激光干涉仪，其特征在于，所述低折射率膜层的材料为SiO2、Al2O3、MgF2中的至少之一，所述低折射率膜层的折射率在1550nm的范围为1.38至1.6。

7.如权利要求1的激光干涉仪，其特征在于，所述基层为二氧化硅材料或硅材料基片，基层的折射率在1550nm的范围为1.45至3.5。

8.如权利要求1的激光干涉仪，其特征在于，所述第一分光镜的P偏振的透过率大于等于百分之九十的波段范围的宽度大于等于中心波长的百分之十，或P偏振的半峰全宽大于等于中心波长的百分之十。

9.如权利要求5的激光干涉仪，其特征在于，所述第一分光镜的S偏振的的透过率小于百分之十的波段范围大于中心波长的百分之十。